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公开(公告)号:CN101231462A
公开(公告)日:2008-07-30
申请号:CN200810020793.8
申请日:2008-02-27
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/00 , G02B5/02 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种光扩散片的制作方法,其特征在于:包括下列步骤:(1)制作至少具有一个微透镜结构的压印模仁;(2)设定计算机压印控制程序、压印参数及图形文件;(3)采用微纳米热压印或紫外压印的方法,将步骤(1)中的压印模仁,根据步骤(2)中的控制程序及图形文件,压印于待压印的基材第一压印工作位置上,基材得到相应个数的凹形微透镜;(4)根据压印参数,改变压印模仁与待压印基材的相对位置,至下一个压印工作位;(5)重复步骤(3)和(4),直至完成所有压印程序。本发明利用微纳米压印技术直接在基材上压印凹形微透镜,使光扩散层与基材层为一体结构,避免了粘合不牢固、受热膨胀系数不同等造成的散光效果下降、物理变形等现象,有效提高光扩散片的性能。
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公开(公告)号:CN100349024C
公开(公告)日:2007-11-14
申请号:CN200510095776.7
申请日:2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种微光变图像的激光直写方法及装置,包括:(1)构建低空频光栅数字模板,以光栅取向角度等间隔分布,对每一单元光栅用数据结构表达,记录在计算机数据库中;(2)根据所需刻制的微光变图像,从低空频光栅数字模板中选取对应的光栅结构,利用激光束将空间光调制器上显示的光栅图样投影在记录介质上,形成缩小单元像;(3)改变光路和记录介质的相对位置,变换对应空频和取向的光栅图样,重复步骤(2),依次刻录各个光栅单元,获得所需微光变图像。本发明采用直接成像的方法,整个光变图像的制作过程不需要机械旋转的方式来获得条纹取向,只要通过计算机在模板上读取不同取向的单元,输入SLM上即可实现光栅线条的旋转,因此,精度高。
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公开(公告)号:CN101017218A
公开(公告)日:2007-08-15
申请号:CN200710020411.7
申请日:2007-02-14
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B6/00 , G02B6/124 , G02B6/34 , G02B1/10 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种衍射光栅光导薄膜,在薄膜的一侧表面,设有平铺的光栅像素单元,其特征在于:所述光栅像素单元由亚像素结构组成,每一亚像素内的衍射光栅取向、空间频率、槽型深度根据导出光线的方向与光强确定。其制作方法包括下列步骤:(1)设计导光图样的衍射结构分布;(2)将导光图样按照像素结构分布排列成不同序列,每一个单元像素由亚像素构成,每个亚像素内的衍射光栅的取向、空间频率均可以改变;(3)光刻;(4)通过电铸制成金属镍板,对涂布有涂层的PET或PC薄膜进行卷对卷的压印。本发明改进了导光均匀性,提高了导光效果,其制作方法便捷可靠。
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公开(公告)号:CN100495215C
公开(公告)日:2009-06-03
申请号:CN200610037797.8
申请日:2006-01-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法,采用大功率激光器作为光源,将激光束准直成平行光,经过光阑及透镜后,由分束元件产生分束光束,再会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作,其特征在于:所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频,所述光阑为可调矩形光阑,在同一位置进行单次脉冲加工,控制激光器的功率,使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化,在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统,从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段,是一种微米级结构的先进制造技术。
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公开(公告)号:CN101290371A
公开(公告)日:2008-10-22
申请号:CN200810123710.8
申请日:2008-05-30
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长光栅结构偏振片,包括透明基底、介质光栅、第一金属层和第二金属层,所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽,所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部,所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中,介质光栅的周期小于入射光波长,其特征在于:在所述透明基底和介质光栅之间,设有高折射率介质层,所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。通过在透明基底和介质光栅之间增加高折射率介质层,提高了偏振片的TM光的透射效率和消光比。在整个可见光波段,该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。在工艺上,采用纳米压印技术加工制作,制作过程简便易操作,不需要刻蚀工艺,降低了加工成本。
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公开(公告)号:CN101290364A
公开(公告)日:2008-10-22
申请号:CN200810123711.2
申请日:2008-05-30
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 陈林森 , 周小红
Abstract: 本发明公开了彩色滤光片的制作方法及装置。制作方法为:分别获取载有颜色层的四种热转印薄膜;将一种热转印薄膜贴合在彩色滤光片的基片表面,根据画素的排列位置,采用矩形激光束瞬间照射热转印薄膜的对应位置,使得热转印薄膜的颜色层转移到基片表面,调整照射位置并重复上述过程,实现同一颜色的所有画素单元的转移;更换热转印薄膜,重复上述步骤,使四种颜色均实现转移,获得所需的彩色滤光片。本发明整个过程中基片相对位置不发生变化,解决了传统方式需要高精度对位的问题,并可通过激光光点尺寸来控制画素图案的大小;同时该方法适用于柔性彩色滤光片的制作。
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公开(公告)号:CN101161400A
公开(公告)日:2008-04-16
申请号:CN200710135195.0
申请日:2007-11-13
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种制作导光板模仁的方法,根据导光均匀性的要求,在基材表面制备形成导光网点结构,其特征在于:所述基材为具有光滑表面的金属基材,所述导光网点结构的制备方法是,利用大功率脉冲激光器经整形光路聚焦于金属基材表面,直接刻蚀形成所需的导光网点结构,即获得用于射出成型或压印的导光板模仁;同时,利用制得的模仁作为母板,通过电铸工艺进行复制,制得适合导光板制作所需的凹型或凸型模仁。本发明不需要光阻剂涂布、曝光、显影等工艺,直接在光滑金属基板表面刻蚀,制作高精度导光模仁,整个工艺流程简便,制作精度高,大大缩短了制作周期,简化了工艺过程,降低了成本,具有更快的市场反应能力。
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公开(公告)号:CN100371771C
公开(公告)日:2008-02-27
申请号:CN200610038417.2
申请日:2006-02-16
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G02B27/42
Abstract: 本发明公开了一种消色差变色银衍射图像的制作方法,包括下列步骤:(1)制备一种二元光学元件,其远场衍射光场是一条狭缝;(2)构建一个4F光学系统,将步骤(1)获得的二元光学元件放置在其变换平面上,作为分束元件,使得入射光被分成两个条形光场,经透镜组成像后,在记录材料表面形成一个散斑干涉图像单元;(3)改变光学系统与记录材料的相对位置,在记录材料上分别记录对应的条形散斑干涉图像单元,获得消色差变色银衍射图像。本发明同时提供了实现该方法的装置。本发明提供了一种简单、快速、成本低、加工面积大的条形散斑制作方法,使消色差变色银衍射图像进入实用,可以替代现有的银色喷涂技术而实现类似的金属银效果,以解决环保问题。
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公开(公告)号:CN100371741C
公开(公告)日:2008-02-27
申请号:CN200510095775.2
申请日:2005-11-17
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种衍射光变图像的高速激光直写方法,入射平行光经光阑、透镜成像到分束元件上,分束光分别经透镜组会聚,产生干涉条纹光场,依次光刻不同取向的干涉条纹形成不同取向的微光栅图像,其特征在于:由采用半导体泵浦的固态紫外激光器生成所述激光束,利用TTL信号控制,实现激光束的脉冲输出,两组分束光束具有零光程差;光学系统和光刻胶干板分别在相互垂直的两个一维方向上运动,采用连续运动、连续脉冲曝光方式进行光刻。本发明并以此实现了高速激光直写光刻系统,使大面积具有微米级条纹结构的衍射光变图像的原版制作缩短到数小时到17小时之间,真正进入工业化应用阶段,是激光全息技术领域数字化先进制造技术的重要突破。
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公开(公告)号:CN101034183A
公开(公告)日:2007-09-12
申请号:CN200710038827.1
申请日:2007-03-30
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B6/00 , B23K26/00 , H01S3/00 , G02F1/1335
Abstract: 本发明公开了一种导光板/导光膜模仁的制造方法,根据导光的需求,在导光基材表面制备形成导光网点结构,其特征在于:利用大功率脉冲激光器,经光束整形、准直聚焦直接在导光基材表面刻蚀导光网点,获得导光板基体,对刻蚀后的导光板基体表面进行金属化处理,再进行电铸,在表面沉积金属镍,将沉积的金属镍与导光基材分离,即获得所需的导光板/导光膜模仁。同时刻蚀后制得的导光板基体可直接用于背光模组,配置其他背光组件,可进行导光性能检测。本发明可快速进行网点设计评价和提供样品,在进行金属化处理和电铸工序后,即可制得导光板(膜)模仁,大大缩短了制作周期,简化了工艺过程,降低了成本,具有更快的市场反应能力。
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