涂敷清洗一体机
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114849995A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210378993.0

    申请日:2022-04-12

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本发明涉及一种涂敷清洗一体机,从上往下依次包括不锈钢外壳、底盘和底板,底盘上的中间位置沿着Z轴方向设置有主轴旋转机构,主轴旋转机构从下往上依次包括主轴旋转电机、载台转接基板和高速吸附旋转载台,主轴旋转机构沿着Y轴方向两侧的不锈钢外壳内分别设置有第一摆臂和第二摆臂。本发明将涂敷和清洗集成在一个设备上,减少搬运,涂敷与清洗的速度可调整,满足均匀性;本发明通过载台升降气缸,可将加工好的产品送至设备外面等待搬运,可以做到一台设备兼顾不同功能与不同产品。

    石英旋转吸附载台
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114864469A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210379537.8

    申请日:2022-04-12

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本发明涉及一种石英旋转吸附载台,从上往下依次包括刻槽石英载盘、石英安装板、载台底座、旋转电机和旋转轴垫板,旋转电机安装在旋转轴垫板上的中间位置,旋转电机顶部的驱动端与上方的载台底座驱动连接设置,载台底座上安装有石英安装板,石英安装板的顶部内侧安装有刻槽石英载盘,载台底座上沿着圆周方向均匀的安装有若干个吸盘支架,吸盘支架上安装有吸盘。本发明为晶圆切割设备对加工的产品进行吸附固定的载台,解决吸附平面度问题,对产品吸附牢固而且吸附力均匀,同时提供照明光源,背光配合影像提高定位精度,旋转轴搭配光栅尺系统,大大提升了定位精度。

    径向吸附高速旋转轴结构
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114033806A

    公开(公告)日:2022-02-11

    申请号:CN202111498282.9

    申请日:2021-12-09

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本发明涉及径向吸附高速旋转轴结构,包括旋转主轴、固定端盖、上密封器和下密封器,上密封器和下密封器之间通过若干个可插拔圆锥销定位后并通过螺丝连接在一起,旋转主轴自上而下安装在上密封器和下密封器的轴孔内,旋转主轴位于上密封器的轴孔外侧安装有滚动轴承,滚动轴承下方上密封器的轴孔内安装有第一油封,旋转主轴位于下密封器的轴孔外侧安装有深沟球轴承,深沟球轴承上方下密封器的轴孔内安装有第二油封。本发明分为上下密封器组件和旋转主轴,上下密封器在加工过程中先用可插拔的圆锥销来固定位置,再整体加工旋转空腔,保证整体的同心度,后面再组装和维修过程中可以直接通过圆锥销来保证同心度。

    半自动晶锭超声波分片机
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118721471A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202411112364.9

    申请日:2024-08-14

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本发明涉及一种半自动晶锭超声波分片机,包括机架,在机架上从左往右依次安装有超声波分离组件和超声波清洗组件;在超声波分离组件和超声波清洗组件上方的机架上设置有水平切换轴组件,在水平切换轴组件上方的一侧设置有超声波平移轴组件。本发明采用输送型可调真空发生器以及柔软型吸盘,可以做到清洗液中的吸附,并且吸附的真空度大小可控。

    超声波清洗中可旋转吸附的装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117066207A

    公开(公告)日:2023-11-17

    申请号:CN202310756676.2

    申请日:2023-06-26

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本发明涉及超声波清洗中可旋转吸附的装置,包含输送型可调真空发生器、柔软型真空吸盘及中空旋转平台,中空旋转平台安装于固定底板上,驱动电机锁附在中空旋转平台上,中空旋转平台的输入端与驱动电机的主轴传动连接,柔软型真空吸盘安装在吸盘支架上,吸盘支架与吸盘转接板连接,吸盘转接板与中空旋转平台的输出端连接,旋转快速接头安装在吸盘支架上,旋转快速接头通过管路与输送型可调真空发生器连接。实现在清洗液中的吸附,吸附的真空度大小可控,清洗液中产品吸附的同时可以调整真空度,满足不同厚薄产品的吸附要求,避免过大真空度而造成产品的损坏;具有旋转功能,带动柔软型真空吸盘及其所吸附的产品转动,增强超声波作用的均匀性。

    8寸晶圆下影像加工运动平台
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116313988A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310142681.4

    申请日:2023-02-21

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本发明涉及一种8寸晶圆下影像加工运动平台,包括基座、Y轴运动平台、第一X轴运动平台和旋转载台机构,旋转载台机构从下往上依次包括载台框架、中空旋转电机和吸附载台,下影像机构贯穿在载台框架内且下影像机构沿着X轴方向分别安装在两侧的立柱上。本发明通过基座、Y轴运动平台、第一X轴运动平台、旋转载台机构和下影像机构的结构设置,可以实现8寸晶圆背切的加工要求。

    径向吸附高速旋转轴结构

    公开(公告)号:CN216519243U

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202123079665.0

    申请日:2021-12-09

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本实用新型涉及径向吸附高速旋转轴结构,包括旋转主轴、固定端盖、上密封器和下密封器,上密封器和下密封器之间通过若干个可插拔圆锥销定位后并通过螺丝连接在一起,旋转主轴自上而下安装在上密封器和下密封器的轴孔内,旋转主轴位于上密封器的轴孔外侧安装有滚动轴承,滚动轴承下方上密封器的轴孔内安装有第一油封,旋转主轴位于下密封器的轴孔外侧安装有深沟球轴承,深沟球轴承上方下密封器的轴孔内安装有第二油封。本实用新型分为上下密封器组件和旋转主轴,上下密封器在加工过程中先用可插拔的圆锥销来固定位置,再整体加工旋转空腔,保证整体的同心度,后面再组装和维修过程中可以直接通过圆锥销来保证同心度。

    超声波清洗中可旋转吸附的装置

    公开(公告)号:CN220277734U

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202321626226.3

    申请日:2023-06-26

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本实用新型涉及超声波清洗中可旋转吸附的装置,包含输送型可调真空发生器、柔软型真空吸盘及中空旋转平台,中空旋转平台安装于固定底板上,驱动电机锁附在中空旋转平台上,中空旋转平台的输入端与驱动电机的主轴传动连接,柔软型真空吸盘安装在吸盘支架上,吸盘支架与吸盘转接板连接,吸盘转接板与中空旋转平台的输出端连接,旋转快速接头安装在吸盘支架上,旋转快速接头通过管路与输送型可调真空发生器连接。实现在清洗液中的吸附,吸附的真空度大小可控,清洗液中产品吸附的同时可以调整真空度,满足不同厚薄产品的吸附要求,避免过大真空度而造成产品的损坏;具有旋转功能,带动柔软型真空吸盘及其所吸附的产品转动,增强超声波作用的均匀性。

    8寸晶圆下影像加工运动平台

    公开(公告)号:CN219418997U

    公开(公告)日:2023-07-25

    申请号:CN202320268515.4

    申请日:2023-02-21

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本实用新型涉及一种8寸晶圆下影像加工运动平台,包括基座、Y轴运动平台、第一X轴运动平台和旋转载台机构,旋转载台机构从下往上依次包括载台框架、中空旋转电机和吸附载台,下影像机构贯穿在载台框架内且下影像机构沿着X轴方向分别安装在两侧的立柱上。本实用新型通过基座、Y轴运动平台、第一X轴运动平台、旋转载台机构和下影像机构的结构设置,可以实现8寸晶圆背切的加工要求。

    石英旋转吸附载台
    10.
    实用新型

    公开(公告)号:CN217444361U

    公开(公告)日:2022-09-16

    申请号:CN202220834830.4

    申请日:2022-04-12

    Inventor: 赵裕兴 詹长伟

    Abstract: 本实用新型涉及一种石英旋转吸附载台,从上往下依次包括刻槽石英载盘、石英安装板、载台底座、旋转电机和旋转轴垫板,旋转电机安装在旋转轴垫板上的中间位置,旋转电机顶部的驱动端与上方的载台底座驱动连接设置,载台底座上安装有石英安装板,石英安装板的顶部内侧安装有刻槽石英载盘,载台底座上沿着圆周方向均匀的安装有若干个吸盘支架,吸盘支架上安装有吸盘。本实用新型为晶圆切割设备对加工的产品进行吸附固定的载台,解决吸附平面度问题,对产品吸附牢固而且吸附力均匀,同时提供照明光源,背光配合影像提高定位精度,旋转轴搭配光栅尺系统,大大提升了定位精度。

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