一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法

    公开(公告)号:CN1837992B

    公开(公告)日:2012-07-18

    申请号:CN200610038418.7

    申请日:2006-02-16

    Abstract: 本发明公开了一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法及其装置,包括下列步骤:(1)制备一种具有正交光点输出的光学元件;(2)构建一个4F光学系统,将步骤(1)获得的光学元件放置在其变换平面上,作为分束元件,使得入射光被分成四束光,经透镜组成像后,在记录材料表面形成干涉条纹单元,所述激光光源采用短相干长度的激光器;(3)改变光学系统与记录材料的相对位置,在记录材料上分别记录步骤(2)获得的干涉条纹单元,逐点光刻出点阵素面光栅。本发明大大降低了制作大幅面点阵素面彩虹光变图像的技术要求;同时可以获得不同衍射效果的点阵素面彩虹图像的效果,还可与数字化光变图像相互镶嵌。

    对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置

    公开(公告)号:CN1821883A

    公开(公告)日:2006-08-23

    申请号:CN200610037797.8

    申请日:2006-01-12

    Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法,采用大功率激光器作为光源,将激光束准直成平行光,经过光阑及透镜后,由分束元件产生分束光束,再会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作,其特征在于:所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频,所述光阑为可调矩形光阑,在同一位置进行单次脉冲加工,控制激光器的功率,使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化,在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统,从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段,是一种微米级结构的先进制造技术。

    击打式光学可变图像制作方法及其打印装置

    公开(公告)号:CN1343572A

    公开(公告)日:2002-04-10

    申请号:CN01134125.4

    申请日:2001-10-29

    Abstract: 一种击打式光学可变图像制作方法,用具有热压敏特征的塑性材料作为打印介质,用光栅头作为打印头,用加热的打印头对打印介质加压,在打印介质上生成浮雕型光栅,控制打印头和打印介质的相对位置进行打印,即获得整个光学可变图像。其打印装置,包括打印头、打印头驱动部分、打印介质驱动部分和计算机控制系统,所述打印头驱动部分包括转动机构、Z轴运动机构和加热控制器,所述打印头为浮雕型光栅头,打印介质可以相对于打印头运动,各运动驱动机构和加热控制器由计算机控制系统提供控制信号。本发明不需要激光器和感光材料,排除了大面积洁净光刻胶涂布的难题,适合于制作大面积的光学可变图像;同时大大缩短了光学可变图像的制作时间。

    击打式光学可变图像制作方法及其打印装置

    公开(公告)号:CN1164441C

    公开(公告)日:2004-09-01

    申请号:CN01134125.4

    申请日:2001-10-29

    Abstract: 一种击打式光学可变图像制作方法,在具有热压敏特征的塑性材料上,用加热的光栅头对打印介质加压,生成浮雕型光栅,加热温度在60℃~150℃之间,打印压强1000帕到5000帕,打印接触时间0.05秒至1秒,控制打印头和打印介质的相对位置进行打印,获得整个光学可变图像。其打印装置,包括打印头、打印头驱动部分、打印介质驱动部分和计算机控制系统,打印头驱动部分包括转动机构、Z轴运动机构和加热控制器,打印头为浮雕型光栅头,打印介质可以相对于打印头运动。本发明不需要激光器和感光材料,排除了大面积洁净光刻胶涂布的难题,适合于制作大面积的光学可变图像;同时大大缩短了光学可变图像的制作时间。

    光学可变图像的制作方法及其照排系统

    公开(公告)号:CN1350211A

    公开(公告)日:2002-05-22

    申请号:CN01134127.0

    申请日:2001-10-29

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 一种光学可变图像的制作方法,由一光源经成像系统将形状光阑成像到全息光学元件上,产生一对衍射光束;将衍射光束会聚在记录材料上,产生一定形状的干涉条纹点;移动记录材料的位置;记录下一个干涉条纹点;重复上述步骤,直至完成。本发明的光学可变图像照排系统,包括由光源、衍射前成像系统、全息光学元件、衍射后成像系统组成的光路系统、工作台及控制部分,全息光学元件设置在转台上,工作台可以沿X轴和Y轴运动,记录材料位于衍射后成像系统的焦面上。本发明能有效利用入射光的能量,完成全息衍射光栅的制作,速度快,且图像具有加密和更丰富的信息表达特征。

    对光滑表面进行微米结构光刻蚀的方法及装置

    公开(公告)号:CN100495215C

    公开(公告)日:2009-06-03

    申请号:CN200610037797.8

    申请日:2006-01-12

    Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法,采用大功率激光器作为光源,将激光束准直成平行光,经过光阑及透镜后,由分束元件产生分束光束,再会聚到材料表面,形成均匀干涉条纹光场,在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作,其特征在于:所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频,所述光阑为可调矩形光阑,在同一位置进行单次脉冲加工,控制激光器的功率,使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化,在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统,从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段,是一种微米级结构的先进制造技术。

    衍射光变图像的高速激光直写方法和系统

    公开(公告)号:CN100371741C

    公开(公告)日:2008-02-27

    申请号:CN200510095775.2

    申请日:2005-11-17

    Abstract: 本发明公开了一种衍射光变图像的高速激光直写方法,入射平行光经光阑、透镜成像到分束元件上,分束光分别经透镜组会聚,产生干涉条纹光场,依次光刻不同取向的干涉条纹形成不同取向的微光栅图像,其特征在于:由采用半导体泵浦的固态紫外激光器生成所述激光束,利用TTL信号控制,实现激光束的脉冲输出,两组分束光束具有零光程差;光学系统和光刻胶干板分别在相互垂直的两个一维方向上运动,采用连续运动、连续脉冲曝光方式进行光刻。本发明并以此实现了高速激光直写光刻系统,使大面积具有微米级条纹结构的衍射光变图像的原版制作缩短到数小时到17小时之间,真正进入工业化应用阶段,是激光全息技术领域数字化先进制造技术的重要突破。

    一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法

    公开(公告)号:CN1837992A

    公开(公告)日:2006-09-27

    申请号:CN200610038418.7

    申请日:2006-02-16

    Abstract: 本发明公开了一种点阵素面彩虹光变图像的制作方法及其装置,包括下列步骤:(1)制备一种具有正交光点输出的光学元件;(2)构建一个4F光学系统,将步骤(1)获得的光学元件放置在其变换平面上,作为分束元件,使得入射光被分成四束光,经透镜组成像后,在记录材料表面形成干涉条纹单元,所述激光光源采用短相干长度的激光器;(3)改变光学系统与记录材料的相对位置,在记录材料上分别记录步骤(2)获得的干涉条纹单元,逐点光刻出点阵素面光栅。本发明大大降低了制作大幅面点阵素面彩虹光变图像的技术要求;同时可以获得不同衍射效果的点阵素面彩虹图像的效果,还可与数字化光变图像相互镶嵌。

    衍射光变图像的高速激光直写方法和系统

    公开(公告)号:CN1786748A

    公开(公告)日:2006-06-14

    申请号:CN200510095775.2

    申请日:2005-11-17

    Abstract: 本发明公开了一种衍射光变图像的高速激光直写方法,入射平行光经光阑、透镜成像到分束元件上,分束光分别经透镜组会聚,产生干涉条纹光场,依次光刻不同取向的干涉条纹形成不同取向的微光栅图像,其特征在于:由采用半导体泵浦的固态紫外激光器生成所述激光束,利用TTL信号控制,实现激光束的脉冲输出,两组分束光束具有零光程差;光学系统和光刻胶干板分别在相互垂直的两个一维方向上运动,采用连续运动、连续脉冲曝光方式进行光刻。本发明并以此实现了高速激光直写光刻系统,使大面积具有微米级条纹结构的衍射光变图像的原版制作缩短到数小时到17小时之间,真正进入工业化应用阶段,是激光全息技术领域数字化先进制造技术的重要突破。

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