-
公开(公告)号：CN118377134A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410493862.6
申请日：2024-04-23
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种高激光损伤阈值的聚焦超构透镜的设计与制备方法。按聚焦相位计算得到用于超构透镜聚焦所需的相位面分布函数；对用于超构透镜设计的不同构型和尺寸的纳米柱进行参数扫描，计算得到各纳米柱形状参数对应的相位和透过率；按得到的相位面分布函数排布纳米柱结构阵列的图案；以兼具高损伤阈值和高折射率的宽禁带半导体材料为基底，一体化排布同质的纳米柱阵列，设计得到一种高激光损伤阈值的聚焦超构透镜；采用电子束蒸发镀膜、反应耦合等离子体刻蚀等工艺制备聚焦超构透镜。本发明采用同质结构设计，超构透镜结构与基底具有相同的热膨胀系数，在激光照射下产生相同程度的形变，大幅度提高器件的激光诱导损伤阈值，并具有较好的聚焦效果。
-
公开(公告)号：CN221926700U
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202420852945.5
申请日：2024-04-23
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本实用新型涉及一种高激光损伤阈值的超构透镜。在GaN基底表面一体化排布同质的纳米柱结构阵列，纳米柱阵列的相位分布满足聚焦条件；纳米柱的构型为方柱、圆柱中的一种或任意组合。本实用新型采用较高折射率和较高带隙宽度的GaN材料，且基底与结构为同种材料的同质聚焦超构透镜结构，在结构和基底间获得相同的热膨胀系数；基底和满足聚焦条件的特定方式排布在基底上的单元纳米柱阵列，阵列中不同位置的单元纳米柱直径或边长各不相同，以满足0～2π的相位梯度；阵列中的每一个单元纳米柱都按照聚焦相位公式排列，可实现高激光损伤阈值，且制备工艺难度较低的超构透镜。
-
Search Results
2
records
(took 0.02 seconds)
