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公开(公告)号：CN118377075A
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202410811024.9
申请日：2024-06-21
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明涉及直边衍射抑制技术领域，公开一种抑制拼接光栅拼缝的直边衍射效应的方法和光栅，包括：根据不同占空比下栅齿的衍射效率和槽深的对应关系，在拼接光栅的拼缝两侧对称设置不同槽深的栅齿；栅齿沿光栅设置的方向上，顺序排列的栅齿对应的衍射效率呈截断式非规整振幅的超高斯函数、截断式的线性函数或截断式非规整振幅的正弦函数分布。本发明可以抑制拼缝的直边衍射在衍射光场中产生的光场调制、避免调制光强分布中的极大光强对后续光学元件的物理损伤。
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公开(公告)号：CN111065968A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201880004942.3
申请日：2018-05-22
Applicant: 苏州大学
Abstract: 公开了一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法，属于信息光学领域，为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题。全息光栅光刻系统中，在准直透镜(9,10)的后方放置体布拉格光栅(13,16)的布拉格角，在曝光光束入射至体布拉格光栅(13,16)后的-1级透射衍射光路上放置光电探测器(14,15)。全息光栅光刻系统干涉光路自准直的调节方法包括沿着光轴前后移动针孔滤波器(7,8)，实时观察光电探测器(14,15)的读数，当光电探测器(14,15)的读数最大时，固定针孔滤波器(7,8)并且保持第一针孔滤波器(7)与第一准直透镜(9)间距恒定。利用体布拉格光栅来检测自准直光的平行度，代替传统的莫尔条纹调节方法，操作简单，具有很强的实用价值。
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公开(公告)号：CN108318954B
公开(公告)日：2019-12-27
申请号：CN201810312061.X
申请日：2018-04-09
Applicant: 苏州大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明属于信息光学领域，涉及一种宽光束扫描曝光系统与方法，为解决制作米级光栅曝光时间过长引起的时效性差以及环境不确定性导致扫描条纹对比度下降问题，采用干涉条纹扫描技术无缝连续拼接光栅；在扫描曝光过程中，运用多维条纹锁定技术，始终以扫描曝光过的潜像光栅的潜像条纹作为锁定条纹，直至扫描曝光结束；在移动曝光中实现了实时闭环的锁定第一曝光光束与第二曝光光束的相位差，条纹周期、以及第一曝光光束与第二曝光光束夹角，从而在一个扫描周期即可获得高质量的且受环境因素影响小的无缝拼接米级光栅；光束整形压缩柱面系统的使用有效增加了光束的利用率，同时保证光束的波面质量，大大缩短了米量级光栅的制备时间。
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公开(公告)号：CN104375227B
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：CN201410731545.X
申请日：2014-12-05
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种多次曝光拼接制作大面积全息光栅的方法，基于莫尔条纹检测原理,在干涉记录光路中加入光楔进行光场位相调制，准确检测第一次曝光制作光栅与干涉记录光场之间的姿态和位相信息，最终实现第二次全息记录的光栅和第一次全息记录的光栅精确对准。为制作大面积全息光栅提供了一种有效的方法。
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公开(公告)号：CN103941319A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201410154633.8
申请日：2014-04-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种全息凹面闪耀光栅的母板及其制备方法，制作步骤如下：（1）制备全息凹面光栅掩模；（2）在全息凹面光栅掩模上沉积金属层；（3）在所述金属层上涂布粘合剂；（4）将与凸模连接的金属层和所述全息凹面光栅掩模分离，清洗，获得凸面金属光栅掩模；（5）测量所述凸面金属光栅掩模的栅齿结构，获得栅齿占空比信息；采用电铸或镀膜的方式以及化学腐蚀或离子刻蚀的方式调节栅齿的占空比；（6）采用离子束刻蚀凸面金属光栅掩模，使凸面金属光栅掩模转变成三角形闪耀结构，得到全息凹面闪耀光栅的母板。本发明将凹面光栅掩模结构转移到凸面金属层上，金属层柔韧性好，光栅槽型结构转移精度高，不易开裂变形，耐用性好。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101726779B
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200910231737.3
申请日：2009-12-03
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到全息双闪耀光栅。本发明实现了全息双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101799569A
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN201010126045.5
申请日：2010-03-17
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到凸面双闪耀光栅。本发明实现了凸面双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。
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公开(公告)号：CN101382611B
公开(公告)日：2010-06-30
申请号：CN200810155639.1
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN101382611A
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：CN200810155639.1
申请日：2008-10-10
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种基于参考光栅二次曝光的大面积全息光栅制备方法，在主全息干板上制备衍射光栅，包括下列步骤：(1)固定参考全息干板；(2)遮挡主全息干板，用全息光栅记录光场制备参考光栅；(3)使参考光栅与记录光场形成较疏的莫尔条纹，莫尔条纹的方向与参考光栅的线条方向垂直，记录该莫尔条纹信息；(4)对主全息干板的第一部分曝光、显影；(5)同步移动主全息干板和参考全息干板，调节参考光栅和记录光场的相对位置，使再现的莫尔条纹信息与步骤(3)中一致；(6)对主全息干板的第二部分曝光、显影，完成全息曝光拼接光栅的制作。本发明实现了衍射光栅制备过程中相邻区域的拼接，保证了光栅条纹的平行精度和相位关系，可用于制备大面积的衍射光栅。
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公开(公告)号：CN115248488A
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202110450575.3
申请日：2021-04-25
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请提出一种全息透镜的拼接加工方法及装置。该方法包括：在全息透镜基板的几何中心曝光一个圆形的子光栅；调整全息透镜基板与实时干涉光场的相对位置，使得圆形子光栅与实时干涉光场的莫尔条纹为零条纹状态，插入平行平板以将光束偏折来扩大光束口径，获得参考条纹，并基于记录装置记录；曝光全息透镜基板边缘第一子光栅曝光后、旋转预设角度曝光并依次拼接全息透镜基板边缘的其它子光栅，得到大口径的全息透镜。该方法通过光束的偏折扩大光束口径，通过曝光拼接将弯曲的光栅线条进行拼接以制作大口径的全息透镜，满足大口径望远系统的高空间分辨率的要求。
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