-
公开(公告)号:CN103984874A
公开(公告)日:2014-08-13
申请号:CN201410250483.0
申请日:2014-06-06
Applicant: 苏州大学
IPC: G06F19/00
Abstract: 一种轨道列车动荷载的计算方法,包括以下步骤,S1:列车停运时,测量钢轨上表面某点B受到的力锤激励力F锤击与钢轨下部某点A的竖向加速度响应aA,锤击,计算出两者之间的振动传递函数H(s);S2:列车运行时,现场实测钢轨下部的A点的竖向加速度时域信号a(t)实测,将a(t)实测转换成复频域信号a(s)实测;S3:结合H(s)和a(s)实测,推导出复频域的列车动载荷F(s);S4:将F(s)转换成时域信号;S5:将F(s)输入数值计算模型,求解轨道中心线附近地面的振动加速度响应,将该振动加速度与现场实测振动加速度进行对比,对列车动荷载进行幅值调整,得到最终的列车动荷载。本发明所揭示的轨道列车动荷载的计算方法,可以简便、精确地求解轨道中心线附近地面的振动加速度响应。
-
公开(公告)号:CN100567566C
公开(公告)日:2009-12-09
申请号:CN200710134954.1
申请日:2007-10-31
IPC: C23C16/505 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开了一种用于大面积薄膜生长的真空等离子体反应器,包括反应腔体、射频电源,所述反应腔体顶部设有进气孔,底部设有真空抽气口,所述反应腔体内设有与射频电源通过匹配网络连接的电极板、用于承载基片的基片架电极,其特征在于:所述电极板为由方形电极构成的极板阵列;所述进气孔经分进气管道连通至位于各方形电极板中央的气体导流孔;还设有与上电极板和基片架电极板处于同平面且呈同轴排列的接地匀流环,所述接地匀流环上分布有通孔。本发明提高了射频功率的耦合效率,可以在较大面积范围内获得均匀的射频场。
-
公开(公告)号:CN103984874B
公开(公告)日:2017-03-29
申请号:CN201410250483.0
申请日:2014-06-06
Applicant: 苏州大学
IPC: G06F19/00
Abstract: 一种轨道列车动荷载的计算方法,包括以下步骤,S1:列车停运时,测量钢轨上表面某点B受到的力锤激励力F锤击与钢轨下部某点A的竖向加速度响应aA,锤击,计算出两者之间的振动传递函数H(s);S2:列车运行时,现场实测钢轨下部的A点的竖向加速度时域信号a(t)实测,将a(t)实测转换成复频域信号a(s)实测;S3:结合H(s)和a(s)实测,推导出复频域的列车动载荷F(s);S4:将F(s)转换成时域信号;S5:将F(s)输入数值计算模型,求解轨道中心线附近地面的振动加速度响应,将该振动加速度与现场实测振动加速度进行对比,对列车动荷载进行幅值调整,得到最终的列车动荷载。本发明所揭示的轨道列车动荷载的计算方法,可以简便、精确地求解轨道中心线附近地面的振动加速度响应。
-
公开(公告)号:CN100591801C
公开(公告)日:2010-02-24
申请号:CN200710133452.7
申请日:2007-09-30
IPC: C23C16/50 , H01L21/205 , H01L21/365
Abstract: 本发明将导入原料气的二至四支喷管密封固定在真空沉积腔上方导入沉积腔,反应气体或与载气由气源导入喷管,喷管的喷口出口处附近设置一金属热丝,在喷管外壁设有由可产生等离子体的电源驱动的电感线圈,沉积腔内设生长薄膜的衬底平台,沉积腔的下部或下侧部设有抽真空出口管。本发明制备薄膜材料装置具有成膜质量高、沉积速率快、生长温度低,气体利用率高等优点。
-
公开(公告)号:CN101148756A
公开(公告)日:2008-03-26
申请号:CN200710134954.1
申请日:2007-10-31
IPC: C23C16/505 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开了一种用于大面积薄膜生长的真空等离子体反应器,包括反应腔体、射频电源,所述反应腔体顶部设有进气孔,底部设有真空抽气口,所述反应腔体内设有与射频电源通过匹配网络连接的电极板、用于承载基片的基片架电极,其特征在于:所述电极板为由方形电极构成的极板阵列;所述进气孔经分进气管道连通至位于各方形电极板中央的气体导流孔;还设有与上电极板和基片架电极板处于同平面且呈同轴排列的接地匀流环,所述接地匀流环上分布有通孔。本发明提高了射频功率的耦合效率,可以在较大面积范围内获得均匀的射频场。
-
公开(公告)号:CN101158034A
公开(公告)日:2008-04-09
申请号:CN200710133452.7
申请日:2007-09-30
IPC: C23C16/50 , H01L21/205 , H01L21/365
Abstract: 本发明将导入原料气的二至四支喷管密封固定在真空沉积腔上方导入沉积腔,反应气体或与载气由气源导入喷管,喷管的喷口出口处附近设置一金属热丝,在喷管外壁设有由可产生等离子体的电源驱动的电感线圈,沉积腔内设生长薄膜的衬底平台,沉积腔的下部或下侧部设有抽真空出口管。本发明制备薄膜材料装置具有成膜质量高、沉积速率快、生长温度低,气体利用率高等优点。
-
-
-
-
-