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1.

发明公开
氮化镓化学机械抛光液及其制备方法无效

公开(公告)号：CN110205034A

公开(公告)日：2019-09-06

申请号：CN201910550088.7

申请日：2019-06-24

Applicant: 苏州大学

Inventor： 王永光 , 钮市伟 , 寇清明 , 陈瑶 , 赵栋 , 朱玉广 , 刘卫卫

IPC: C09G1/02 , H01L21/306

Abstract: 本发明公开了一种氮化镓化学机械抛光液，由SiO2抛光液、H2O2、甘氨酸、对苯二甲酸、去离子水和pH调节剂配制而成；所述化学机械抛光液中，SiO2的浓度为5～10wt％，H2O2的浓度为0.4～0.8wt％，甘氨酸的浓度为0.5～1.5wt％，对苯二甲酸的浓度为0.1～1wt％，pH值为11～11.5。本发明还提供了所述氮化镓化学机械抛光液的制备方法。本发明的氮化镓化学机械抛光液，成分和制备工艺简单，改善了传统氮化镓抛光液污染环境、对人体有伤害等问题；并且抛光速率达一百纳米每小时以上，抛光表面粗糙度低至亚纳米级粗糙度。

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