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发明公开
基板处理装置审中-实审

公开(公告)号：CN119742245A

公开(公告)日：2025-04-01

申请号：CN202411235718.9

申请日：2024-09-04

Applicant: 芝浦机械电子株式会社

Inventor： 冈田健太郎 , 森秀树 , 小山裕贵 , 小曽根彰纪

IPC: H01L21/67 , B08B1/14 , B08B1/30 , B08B1/34 , B08B1/40 , B08B13/00

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其能够将残留于板的相向面的处理液去除而保持板的清洁度。基板处理装置具有：旋转体，使由保持部保持的基板旋转；处理液供给部，向基板的被处理面供给处理液；板，设置于与被处理面相向的位置；加热部，设置于板，对供给至基板的被处理面的处理液进行加热；以及清洗部，对与板的被处理面相向的相向面进行清洗。清洗部具有：供液部，向相向面供给清洗液；擦拭部，与相向面接触来对由供液部供给的清洗液进行擦拭；支柱，将擦拭部支持为能够以沿与相向面平行的方向延伸的轴为转动轴转动；以及移动机构，使擦拭部沿着相向面移动。

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