公开(公告)号：CN100423195C

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200410083507.4

申请日：2004-10-08

Applicant: 艾迪科总合设备株式会社 ,  株式会社艾迪科

Inventor： 日置晃 ,  中川敏 ,  矢岛明政

IPC: H01L21/205

CPC classification number: B08B9/0321 ,  B08B9/08 ,  C23C16/18 ,  C23C16/4402 ,  Y10T137/4259

Abstract: 本发明提供用于供给流体的供给装置，其包括：至少1个储藏流体或者产生流体的原料源的原料源容器、至少1个储藏用于洗涤供给装置内的液体或者用于稀释原料源的液体的洗涤和/或稀释液容器、至少1个储藏洗涤处理后的洗涤液的回收容器、至少1个用于导入惰性气体的惰性气体导入管A、至少1个惰性气体导入管B、至少1个用于连接真空管线的真空管线管、至少1个将流体导入工艺的工艺导入管，其中，原料源容器具有与该原料源容器内部相连的容器管C-1和容器管C-2，在容器管C-1中由原料源容器侧配置阀1、阀4，在容器C-2由原料源容器侧配置阀2、阀5，阀1和阀4之间以及阀2和阀5之间通过具有阀3的连接管C连通。

公开(公告)号：CN1606131A

公开(公告)日：2005-04-13

申请号：CN200410083507.4

申请日：2004-10-08

Applicant: 艾迪科总合设备株式会社 ,  旭电化工业株式会社

Inventor： 日置晃 ,  中川敏 ,  矢岛明政

IPC: H01L21/205

CPC classification number: B08B9/0321 ,  B08B9/08 ,  C23C16/18 ,  C23C16/4402 ,  Y10T137/4259

Abstract: 本发明提供适用于因与外部环境接触而容易污染、分解或者变质的流体供给且没有外部环境的影响的流体供给装置，其包括：至少1个储藏流体或者产生流体的原料源的原料源容器、至少1个储藏用于洗涤供给装置内的液体或者用于稀释原料源的液体的洗涤和/或稀释液容器、至少1个储藏洗涤处理后的洗涤液的回收容器、至少1个用于导入惰性气体的惰性气体导入管(A)、至少1个惰性气体导入管(B)、至少1个用于连接真空管线的真空管线管、至少1个将流体导入工艺的工艺导入管，其中，原料源容器具有与容器内部相连的容器管(C－1)和容器管(C－2)，在容器管(C－1)中由容器侧配置阀(1)、阀(4)，在容器(C－2)由容器侧配置阀(2)、阀(5)，阀(1)和阀(4)之间以及阀(2)和阀(5)之间通过具有阀(3)的连接管(C)连通。

公开(公告)号：CN102257579A

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN201080003603.7

申请日：2010-01-06

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 后藤智誉 ,  芳仲笃也 ,  矢岛明政

IPC: H01B13/00 ,  H01B12/06

CPC classification number: H01L39/2425 ,  C04B35/4508 ,  C04B35/6263 ,  C04B35/6264 ,  C04B35/6325 ,  C04B2235/3215 ,  C04B2235/3225 ,  C04B2235/449 ,  C04B2235/6562 ,  C23C18/1216 ,  C23C18/1295

Abstract: 本发明的氧化物超导电厚膜用组合物的特征在于，其是用于形成RE-Ba-Cu(RE是选自由Y、Nd、Sm、Gd、Eu、Yb、Pr及Ho组成的组中的至少1种以上的元素)系氧化物超导电厚膜的组合物，其含有作为RE成分的碳原子数为4～8的酮酸的RE盐、作为Ba成分的三氟乙酸钡、作为Cu成分的选自由碳原子数为6～16的支链饱和脂肪族羧酸的铜盐及碳原子数为6～16的脂环族羧酸的铜盐组成的组中的1种以上的铜盐、以及溶解这些金属盐成分的有机溶剂作为必需成分，RE与Ba与Cu的摩尔比为1∶1.3～2.2∶2.4～3.6，有机溶剂的含量为25～80重量％。