公开(公告)号：CN100423195C

公开(公告)日：2008-10-01

申请号：CN200410083507.4

申请日：2004-10-08

Applicant: 艾迪科总合设备株式会社 ,  株式会社艾迪科

Inventor： 日置晃 ,  中川敏 ,  矢岛明政

IPC: H01L21/205

CPC classification number: B08B9/0321 ,  B08B9/08 ,  C23C16/18 ,  C23C16/4402 ,  Y10T137/4259

Abstract: 本发明提供用于供给流体的供给装置，其包括：至少1个储藏流体或者产生流体的原料源的原料源容器、至少1个储藏用于洗涤供给装置内的液体或者用于稀释原料源的液体的洗涤和/或稀释液容器、至少1个储藏洗涤处理后的洗涤液的回收容器、至少1个用于导入惰性气体的惰性气体导入管A、至少1个惰性气体导入管B、至少1个用于连接真空管线的真空管线管、至少1个将流体导入工艺的工艺导入管，其中，原料源容器具有与该原料源容器内部相连的容器管C-1和容器管C-2，在容器管C-1中由原料源容器侧配置阀1、阀4，在容器C-2由原料源容器侧配置阀2、阀5，阀1和阀4之间以及阀2和阀5之间通过具有阀3的连接管C连通。

公开(公告)号：CN1606131A

公开(公告)日：2005-04-13

申请号：CN200410083507.4

申请日：2004-10-08

Applicant: 艾迪科总合设备株式会社 ,  旭电化工业株式会社

Inventor： 日置晃 ,  中川敏 ,  矢岛明政

IPC: H01L21/205

CPC classification number: B08B9/0321 ,  B08B9/08 ,  C23C16/18 ,  C23C16/4402 ,  Y10T137/4259

Abstract: 本发明提供适用于因与外部环境接触而容易污染、分解或者变质的流体供给且没有外部环境的影响的流体供给装置，其包括：至少1个储藏流体或者产生流体的原料源的原料源容器、至少1个储藏用于洗涤供给装置内的液体或者用于稀释原料源的液体的洗涤和/或稀释液容器、至少1个储藏洗涤处理后的洗涤液的回收容器、至少1个用于导入惰性气体的惰性气体导入管(A)、至少1个惰性气体导入管(B)、至少1个用于连接真空管线的真空管线管、至少1个将流体导入工艺的工艺导入管，其中，原料源容器具有与容器内部相连的容器管(C－1)和容器管(C－2)，在容器管(C－1)中由容器侧配置阀(1)、阀(4)，在容器(C－2)由容器侧配置阀(2)、阀(5)，阀(1)和阀(4)之间以及阀(2)和阀(5)之间通过具有阀(3)的连接管(C)连通。

公开(公告)号：CN1957110A

公开(公告)日：2007-05-02

申请号：CN200580016338.5

申请日：2005-04-28

Applicant: 株式会社艾迪科

Inventor： 细川胜 ,  松下正胜 ,  中川敏

IPC: C23C16/40 ,  H01L21/316

CPC classification number: C23C16/4402 ,  C23C16/4401

Abstract: 本发明的化学气相成长用原料含有由金属化合物形成的前体，在液相中利用光散射式液体中粒子检测器进行的粒子测定中，在1毫升液相中大于0.5μm的粒子的数量为100个以下；即使在使用高分解性金属化合物作为前体时，也可以降低薄膜的粒子污染。