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公开(公告)号:CN112041590B
公开(公告)日:2022-05-17
申请号:CN201980026934.3
申请日:2019-04-11
Applicant: 舍弗勒技术股份两合公司
IPC: F16F15/14
Abstract: 本发明涉及一种离心摆(1),其具有至少一个凸缘(2、3)和多个摆体(4),其中所述摆体(4)被布置在所述至少一个凸缘(2、3)上以便至少相对于旋转轴线(6)并且相对于所述至少一个凸缘(2、3)在径向方向(5)上运动;所述摆体(4)由至少一个第一预加载元件(7)在轴向方向(8)上相对于所述至少一个凸缘(2、3)预加载;所述摆体(4)在所述径向方向(5)上在所述摆体(4)的最内点(10)与最外点(11)之间具有延伸部(9);所述至少一个第一预加载元件(7)在第一区域(12)中接触所述摆体(4),所述第一区域在所述径向方向(5)上布置在距所述最外点(11)的某一距离(13)处,所述距离为所述延伸部(9)的至多5%。
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公开(公告)号:CN112041590A
公开(公告)日:2020-12-04
申请号:CN201980026934.3
申请日:2019-04-11
Applicant: 舍弗勒技术股份两合公司
IPC: F16F15/14
Abstract: 本发明涉及一种离心摆(1),其具有至少一个凸缘(2、3)和多个摆体(4),其中所述摆体(4)被布置在所述至少一个凸缘(2、3)上以便至少相对于旋转轴线(6)并且相对于所述至少一个凸缘(2、3)在径向方向(5)上运动;所述摆体(4)由至少一个第一预加载元件(7)在轴向方向(8)上相对于所述至少一个凸缘(2、3)预加载;所述摆体(4)在所述径向方向(5)上在所述摆体(4)的最内点(10)与最外点(11)之间具有延伸部(9);所述至少一个第一预加载元件(7)在第一区域(12)中接触所述摆体(4),所述第一区域在所述径向方向(5)上布置在距所述最外点(11)的某一距离(13)处,所述距离为所述延伸部(9)的至多5%。
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