-
公开(公告)号：CN107695869A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201610462790.4
申请日：2016-06-23
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
发明人： B·钱 , T·布鲁加罗拉斯 , 布鲁福 , J·考兹休克 , D·M·韦内齐亚莱 , Y·童 , D·卢戈 , G·C·雅各布 , J·B·米勒 , T·Q·陈 , M·R·斯塔克 , A·旺克 , J·J·亨德伦
CPC分类号： B24D18/0009 , B24B37/044 , B24B37/24 , B24B53/017 , B24B37/22 , B24B37/26
摘要： 提供一种形成化学机械抛光垫复合抛光层的方法，其包括：提供第一连续非短效聚合相的第一抛光层组件，其具有多个周期性凹槽；将组合以5到1,000m/s的速度向第一抛光层组件排出，用所述组合填充所述多个周期性凹槽；使所述组合在所述多个周期性凹槽中固化形成第二非短效聚合相，获得复合结构；以及从所述复合结构获得所述化学机械抛光垫复合抛光层，其中所述化学机械抛光垫复合抛光层在所述第一抛光层组件的所述抛光侧上具有抛光表面；并且其中所述抛光表面调适成用于抛光衬底。
-
公开(公告)号：CN107695903B
公开(公告)日：2020-02-28
申请号：CN201610464131.4
申请日：2016-06-23
申请人： 陶氏环球技术有限责任公司 , 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
摘要： 本发明为一种制造适合于对半导体、光学和磁性衬底中的至少一种进行平坦化的抛光垫的方法。所述方法包括将液体聚合物液滴紧靠衬底涂覆以形成多个孔隙。液体聚合物含有非离子表面活性剂和离子表面活性剂，所述非离子表面活性剂具有足以促进液体聚合物内孔隙生长的浓度，所述离子表面活性剂具有足以限制液体聚合物内孔隙生长的浓度。使所述固体聚合物固化形成所述多个孔隙的最终尺寸由非离子表面活性剂和离子表面活性剂的浓度控制的抛光垫。
-
公开(公告)号：CN107695869B
公开(公告)日：2019-06-21
申请号：CN201610462790.4
申请日：2016-06-23
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
发明人： B·钱 , T·布鲁加罗拉斯 , 布鲁福 , J·考兹休克 , D·M·韦内齐亚莱 , Y·童 , D·卢戈 , G·C·雅各布 , J·B·米勒 , T·Q·陈 , M·R·斯塔克 , A·旺克 , J·J·亨德伦
CPC分类号： B24D18/0009 , B24B37/044 , B24B37/24 , B24B53/017
摘要： 提供一种形成化学机械抛光垫复合抛光层的方法，其包括：提供第一连续非短效聚合相的第一抛光层组件，其具有多个周期性凹槽；将组合以5到1,000m/s的速度向第一抛光层组件排出，用所述组合填充所述多个周期性凹槽；使所述组合在所述多个周期性凹槽中固化形成第二非短效聚合相，获得复合结构；以及从所述复合结构获得所述化学机械抛光垫复合抛光层，其中所述化学机械抛光垫复合抛光层在所述第一抛光层组件的所述抛光侧上具有抛光表面；并且其中所述抛光表面调适成用于抛光衬底。
-
公开(公告)号：CN107695903A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201610464131.4
申请日：2016-06-23
申请人： 陶氏环球技术有限责任公司 , 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
摘要： 本发明为一种制造适合于对半导体、光学和磁性衬底中的至少一种进行平坦化的抛光垫的方法。所述方法包括将液体聚合物液滴紧靠衬底涂覆以形成多个孔隙。液体聚合物含有非离子表面活性剂和离子表面活性剂，所述非离子表面活性剂具有足以促进液体聚合物内孔隙生长的浓度，所述离子表面活性剂具有足以限制液体聚合物内孔隙生长的浓度。使所述固体聚合物固化形成所述多个孔隙的最终尺寸由非离子表面活性剂和离子表面活性剂的浓度控制的抛光垫。
-
公开(公告)号：CN107695904A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201610465720.4
申请日：2016-06-23
申请人： 陶氏环球技术有限责任公司 , 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
CPC分类号： B24D18/0009 , B24B37/24 , B24B37/26 , B24D18/009
摘要： 提供一种形成化学机械抛光垫抛光层的方法，其包括：提供具有基底的模具，所述基底具有凹槽图案的阴纹；提供聚侧(P)液体组分；提供异侧(I)液体组分；提供加压气体；提供轴向混合装置；将所述聚侧(P)液体组分、所述异侧(I)液体组分和所述加压气体引入到所述轴向混合装置，以形成组合；以5到1,000m/s的速度从所述轴向混合装置朝向所述基底排放所述组合；使所述组合凝固成饼状物；从所述饼状物得到所述化学机械抛光垫抛光层；其中所述化学机械抛光垫抛光层具有抛光表面，其中所述凹槽图案形成于所述抛光表面中；并且其中所述抛光表面适宜于抛光衬底。
-
公开(公告)号：CN107695868A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201610461559.3
申请日：2016-06-23
申请人： 陶氏环球技术有限责任公司 , 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
发明人： B·钱 , J·考兹休克 , T·布鲁加罗拉斯 , 布鲁福 , D·M·韦内齐亚莱 , Y·童 , D·卢戈 , J·B·米勒 , G·C·雅各布 , M·W·德格鲁特 , T·Q·陈 , M·R·斯塔克 , A·旺克 , F·叶
摘要： 提供了一种化学机械抛光垫，其包含：具有抛光表面的化学机械抛光层；其中所述化学机械抛光层通过将以下各项组合而形成：(a)聚侧(P)液体组分，包含：胺-二氧化碳加合物；以及多元醇、多元胺和醇胺中的至少一种；以及(b)异侧(I)液体组分，包含：多官能异氰酸酯；其中所述化学机械抛光层的孔隙度≥10vol％；其中所述化学机械抛光层的肖氏D硬度
-
公开(公告)号：CN107225498A
公开(公告)日：2017-10-03
申请号：CN201710180712.X
申请日：2017-03-23
申请人： 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
IPC分类号： B24B37/26 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/26 , H01L21/304
摘要： 本发明提供一种适用于抛光或平面化半导体、光学和磁衬底中的至少一个的抛光垫。所述抛光垫包含抛光层，所述抛光层具有聚合物基质、厚度以及表示所述抛光层的用于抛光或平面化的工作区的抛光轨迹。径向排放凹槽延伸穿过所述抛光轨迹，以促进在所述抛光垫旋转期间穿过所述抛光轨迹且在半导体、光学和磁衬底中的所述至少一个下面且接着超出所述抛光轨迹朝向所述抛光垫的周边的抛光碎屑移除。
-
-
-
-
-
-
搜索结果
7 条记录 (耗时 0.054 秒)
