介质涂覆设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111432942A

    公开(公告)日:2020-07-17

    申请号:CN201880079078.3

    申请日:2018-11-29

    Abstract: 本发明涉及一种介质涂覆设备、尤其是颜料涂覆设备,该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面(14a;14b;14c;14d)上的至少一个介质输出单元(12a;12b;12c;12d;12e)和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元(12a;12b;12c;12d;12e)的至少一个电子部件单元(16a;16b;16c;16d;16e)。本发明提出,设有至少一个位置和/或表面传感器单元(18a;18c;18d;18e),该位置和/或表面传感器单元设置成用于,感测所述介质输出单元(12a;12c;12d;12e)相对于所述表面(14a;14b;14c;14d)的至少一个位置和/或定向,所述电子部件单元(16a;16c;16d;16e)根据该位置和/或定向控制和/或调节所述介质输出单元(12a;12b;12c;12d;12e)。

    介质涂覆设备
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111432942B

    公开(公告)日:2023-03-10

    申请号:CN201880079078.3

    申请日:2018-11-29

    Abstract: 本发明涉及一种介质涂覆设备、尤其是颜料涂覆设备,该介质涂覆设备具有用于将至少一个介质输出到至少一个表面(14a;14b;14c;14d)上的至少一个介质输出单元(12a;12b;12c;12d;12e)和至少用于控制和/或调节所述至少一个介质输出单元(12a;12b;12c;12d;12e)的至少一个电子部件单元(16a;16b;16c;16d;16e)。本发明提出,设有至少一个位置和/或表面传感器单元(18a;18c;18d;18e),该位置和/或表面传感器单元设置成用于,感测所述介质输出单元(12a;12c;12d;12e)相对于所述表面(14a;14b;14c;14d)的至少一个位置和/或定向,所述电子部件单元(16a;16c;16d;16e)根据该位置和/或定向控制和/或调节所述介质输出单元(12a;12b;12c;12d;12e)。

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