Patent search ap:("绿点高新科技股份有限公司") AND inv:"林威豪" Page 1

1.

发明公开
图案化透明基板及其制法无效

公开(公告)号：CN101722785A

公开(公告)日：2010-06-09

申请号：CN200810167699.5

申请日：2008-10-22

Applicant: 绿点高新科技股份有限公司

Inventor： 廖本逸 , 萧正晔 , 陈立锜 , 林威豪 , 易声宏

IPC: B44C1/22 , B44C1/04 , G02B1/10

Abstract: 一种图案化透明基板及其制法，其制法包括在一透明基板的表面形成一光学镀膜层，并于该第一光学镀膜层上形成具有预定形状的第一图案化印刷层，接着去除该第一光学镀膜层未被该第一图案化印刷层覆盖的部分，最后移除该第一图案化印刷层，留下具有预定图形的第一光学镀膜层，即完成本发明的图案化透明基板，其多色处理程序的边界效应轻微，其中第一光学镀膜层无边界效应，故具有高纯色、高透光性、多图案、多色彩的优点及功效。

Patent Agency Ranking