公开(公告)号：CN119816727A

公开(公告)日：2025-04-11

申请号：CN202380060977.X

申请日：2023-06-21

Applicant: 统一半导体公司

Inventor： M·杜兰德·德热维涅 ,  G·维也纳 ,  K·本哈德萨勒姆

IPC: G01N21/95 ,  G01N21/64

Abstract: 本发明涉及一种用于基板(3)的光学检查的系统(1)。该系统包括在基板(3)上限定检查区域(I)的照明装置、用于接纳基板(3)的支承件(2)和在基板(3)上限定检测区域(D)的检测装置。根据本发明，检查区域(I)相对于扫描方向(SD)定位在检测区域(D)的至少一部分的前方。

公开(公告)号：CN112867919A

公开(公告)日：2021-05-28

申请号：CN201980066101.X

申请日：2019-09-20

Applicant: 统一半导体公司

Inventor： M·杜兰德·德热维涅

IPC: G01N21/47 ,  G01B11/30 ,  G02B5/10 ,  G01N21/88 ,  G01N21/95

Abstract: 本发明涉及一种对诸如用于电子器件、光学器件或电子器件的晶片的基板(3)进行检查的暗场光学装置(1)，该暗场光学装置包括：光源(4)，该光源生成被投射到基板(3)的检查区(P)上并且能够以漫射辐射(5)的形式从该检查区反射的至少一个入射照明光束(4a、4a’、4a”)；至少一个第一收集装置(7a)以及一个第二收集装置(7b)；以及反射光学装置(6)，该反射光学装置沿收集装置(7a、7b)的方向引导漫射辐射(5)的从与检查区(P)重合的光学收集焦点(F)发出的至少一部分，反射光学装置具有第一反射区(6a)和第二反射区，从反射区朝着与光学收集焦点(F)在光学上共轭的第一光学检测焦点(Fa)反射漫射辐射(5)的第一部分，并且从反射区朝着与光学收集焦点(F)在光学上共轭并与第一光学检测焦点(Fa)分离的第二光学检测焦点(Fb)反射漫射辐射(5)的第二部分。