一种日盲紫外薄膜场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN118198141A

    公开(公告)日:2024-06-14

    申请号:CN202410320981.1

    申请日:2024-03-20

    Abstract: 本发明提供一种日盲紫外薄膜场效应晶体管及其制备方法。所述日盲紫外薄膜场效应晶体管包括依次层叠设置的Si衬底、Er2O3介质层和Ga2O3薄膜,所述Ga2O3薄膜中掺杂有Zn,所述Ga2O3薄膜的表面设有金属源电极和金属漏电极,所述Si衬底的背面设有金属栅电极。提供的日盲紫外薄膜场效应晶体管,通过采用Er2O3介质层代替传统的SiO2介质薄膜,提高场效应晶体管的栅控性能,减少漏电流;在Er2O3介质层表面沉积Ga2O3薄膜,可以大幅度的提升Ga2O3薄膜的结晶性能,降低暗电流;此外,通过Zn掺杂补偿Ga2O3薄膜在制备过程中产生的n型载流子,进一步降低场效应晶体管的暗电流。制备得到的日盲紫外薄膜场效应晶体管,具有优异的日盲紫外线探测能力,并且制备方法简单,生产成本低。

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