公开(公告)号：CN114446754B

公开(公告)日：2023-11-07

申请号：CN202111251676.4

申请日：2021-10-25

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 成晓星 ,  赵台勳 ,  黄政渊 ,  闵堤泓

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种预测环组件的磨损的发生并自动补偿阻抗的阻抗控制装置及具备其的基板处理系统。所述基板处理系统包括：壳体，提供用于处理基板的空间；基板支承部件，设置在壳体的内部，并且支承基板；等离子体产生单元，在壳体的内部产生等离子体；环组件，布置在基板的周围；以及阻抗控制部，控制环组件的周边的阻抗，并且预测环组件的磨损的发生并自动补偿阻抗。

公开(公告)号：CN114446754A

公开(公告)日：2022-05-06

申请号：CN202111251676.4

申请日：2021-10-25

Applicant: 细美事有限公司

Inventor： 成晓星 ,  赵台勳 ,  黄政渊 ,  闵堤泓

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种预测环组件的磨损的发生并自动补偿阻抗的阻抗控制装置及具备其的基板处理系统。所述基板处理系统包括：壳体，提供用于处理基板的空间；基板支承部件，设置在壳体的内部，并且支承基板；等离子体产生单元，在壳体的内部产生等离子体；环组件，布置在基板的周围；以及阻抗控制部，控制环组件的周边的阻抗，并且预测环组件的磨损的发生并自动补偿阻抗。