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公开(公告)号：CN112670427B
公开(公告)日：2024-09-13
申请号：CN201910984670.4
申请日：2019-10-16
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种柔性基板、具有其的柔性显示器件及其制备方法。该柔性基板包括第一柔性材料层、光提取隔离结构和多个光提取层；光提取隔离结构设置于第一柔性材料层的一侧表面，光提取隔离结构之间形成多个相互隔离的光提取区域；多个光提取层一一设置于至少一部分光提取区域中，不同波长入射光经过各光提取层，对应不同波长入射光的各光提取层具有不同的光提取提升比率。在将上述柔性基板应用于柔性显示器件后，对应于特定发光波长的光提取层能够对发光器件中不同发光波长的发光单元的外量子效率进行优化，从而不仅提高了器件的发光效率，还能够使最终的各发光单元的外量子效率接近，实现同步老化，延长器件的使用寿命。
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公开(公告)号：CN110783383B
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN201910887341.8
申请日：2019-09-19
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
IPC: H10K59/122 , H10K59/10 , H10K50/86 , H10K71/00
Abstract: 本发明公开了一种显示基板以及显示装置。该显示装置包括显示基板，该显示基板包括设置在衬底上的像素界定层，像素界定层界定多个子像素坑，显示基板还包括界面层，界面层至少覆盖子像素坑的内表面，界面层的表面能不小于70mN/m，界面层的阻抗不小于1ohm·cm2，且不超过2000ohm·cm2；该显示装置还包括设于显示基板上的发光器件，发光器件包括设于子像素坑内的至少一功能层，至少部分功能层由功能材料墨水干燥制得，功能材料墨水的表面能不超过70mN/m，从而功能材料墨水能够浸润界面层。本发明的显示基板有利于功能材料墨水在子像素坑内均匀铺展，形成厚度均匀性好的功能层，进而获得显示性能好的显示装置。
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公开(公告)号：CN116367629A
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202111579935.6
申请日：2021-12-22
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
IPC: H10K59/122 , H10K50/844 , H10K71/00
Abstract: 本公开涉及发光装置、其制备方法以及包括发光装置的电子设备。一种发光装置，包括：基板；以及隔离结构，位于所述基板上，其中，所述隔离结构包括至少一个第一部件并且还包括第二部件，所述至少一个第一部件的至少一部分从所述第二部件的侧面向外突出，其中，所述第二部件的高度大于或等于所述至少一个第一部件的高度。
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公开(公告)号：CN112837843B
公开(公告)日：2022-06-17
申请号：CN202011597490.X
申请日：2020-12-29
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种墨水配方及导电膜的制备方法，墨水配方包括第一墨水和第二墨水，第一墨水包括第一导电材料和第一溶剂，第二墨水包括第二导电材料和第二溶剂，第一导电材料包括第一导电体与包覆在第一导电体表面的第一配体，第二导电材料包括第二导电体与包覆在第二导电体表面的第二配体，第一配体与第二配体的亲疏性相斥。本申请制得的导电膜的导电材料分布均匀，实现了导电膜光透过率的提升。
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公开(公告)号：CN110218343B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN201910323236.1
申请日：2019-04-22
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
Inventor： 顾辛艳
Abstract: 本发明公开了一种微纳米粒子分散体的制备方法以及分散体、器件。该微纳米粒子分散体的制备方法包括以下步骤：S1，混合微纳米粒子、可固化胶以及溶剂得到混合液，使得混合液中的上述微纳米粒子、上述可固化胶和上述溶剂基本均匀地分布，上述溶剂包括第一溶剂；S2，液滴化上述混合液，从而上述混合液形成多个液滴；S3，凝固上述液滴中的上述第一溶剂，并固化上述液滴中的上述可固化胶；S4，干燥上述步骤S3的产物，以去除产物中的溶剂，得到多个微纳米粒子分散体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109860436B
公开(公告)日：2021-02-26
申请号：CN201910064170.9
申请日：2019-01-23
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
Inventor： 顾辛艳
Abstract: 本发明提供了一种光电器件功能层的制备方法及光电器件。该制备方法包括：提供基层；提供界面层墨水，界面层墨水包括第一牺牲材料和第二牺牲材料，第一牺牲材料溶于第二牺牲材料，第一牺牲材料的熔点高于第二牺牲材料的熔点且第一牺牲材料的沸点高于第二牺牲材料的沸点，界面层墨水与基层不溶；采用成膜工艺将界面层墨水设置在基层上，形成界面层液膜；使界面层液膜的至少部分第二牺牲材料挥发，形成界面层；在界面层上设置功能层墨水，得到功能层液膜；以及对功能层液膜进行加热，并去除界面层，形成功能层；其中，界面层包括多个散布的岛状结构、海状膜层中的一种或两种。解决了现有技术中提高各功能层材料成膜均匀性和避免混色不能兼顾的问题。
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公开(公告)号：CN111697153A
公开(公告)日：2020-09-22
申请号：CN201910199222.3
申请日：2019-03-15
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
IPC: H01L51/52
Abstract: 本发明提供了一种发光器件。该发光器件包括第一基板、像素隔离结构、电致发光结构和第二基板，第一基板与第二基板相对设置，像素隔离结构设置于第一基板靠近第二基板一侧的基板表面上，基板表面通过像素隔离结构形成多个相互隔离的子像素区域，各子像素区域内设置有电致发光结构，像素隔离结构与第二基板之间具有与像素隔离结构远离第一基板的一侧的表面对应的第一区域，发光器件还包括水汽阻隔结构，且水汽阻隔结构包括设置于第一区域中的水汽吸附结构和/或水汽阻挡结构。上述发光器件避免了现有技术中封装后水汽吸附材料进入隔离基体形成的子像素区域中造成的对电致发光结构的侵蚀，从而避免了对器件性能造成的影响。
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公开(公告)号：CN106526962A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201611067069.1
申请日：2016-11-28
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
Inventor： 顾辛艳
IPC: G02F1/13357 , H01L27/32
CPC classification number: G02F1/1336 , H01L27/322
Abstract: 本发明提供了一种光转换膜片、其制备方法及显示设备。该光转换膜片包括基材层以及设置于基材层的第一表面的像素隔离结构，像素隔离结构之间形成多个相互隔离的子像素区域，光转换膜片还包括：量子点发光层，设置于至少部分子像素区域对应的基材层上；第一胶层，第一胶层设置于量子点发光层的远离第一表面的一侧。上述方案相对于量子点和光刻胶混合的现有技术来说，减少了两者的接触面积，减少了胶组分对量子点的猝灭，提高了光转换膜片光致发光的效果；并且，本申请通过将胶层设置于量子点发光层之上，从而无需再额外添加保护层，就能够将量子点全部密封在子像素区域内，进而简化了结构且有效的阻挡了水氧的侵袭，提高了光转换膜片的可靠性。
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公开(公告)号：CN110299466B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN201910521426.4
申请日：2019-06-17
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
Inventor： 顾辛艳
Abstract: 本发明提供了一种基板、柔性电致发光器件的制备方法。该基板包括第一表面和与第一表面相对的第二表面，第一表面设有多个第一开口，第二表面设有多个第二开口，第一表面用于承载膜层，多个第一开口和多个第二开口一一对应且贯穿基板而连通形成多个孔道，第一表面的表面能及膜层的表面能均小于孔道的内表面的表面能，且膜层的表面能与第一表面的表面能偏差在±10％以内。通过改变基板表面和基板孔道内表面的表面性能，实现了柔性器件与基板的快速剥离，提高了剥离效率。同时通过侵蚀介质破坏牺牲层材料与基板接触界面的作用力，可以在不对器件产生机械损伤的情况下将器件与基板分离，完成柔性器件的剥离及制备，提高了柔性器件的制备良率。
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公开(公告)号：CN109950415B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201910129410.9
申请日：2019-02-21
Applicant: 纳晶科技股份有限公司
Inventor： 顾辛艳
Abstract: 本发明公开了一种顶发射发光器件及其制备方法。该顶发射发光器件包括：基底；设置在基底上方用于界定多个发光区域的像素界定结构；设于各发光区域的发光单元，各发光单元共享一顶电极，顶电极从各发光区域内向外延伸并覆盖像素界定结构的顶面；设于各发光区域中的光取出单元，光取出单元设于发光单元的出光侧；以及辅助电极，辅助电极设置在像素界定结构顶面的上方，且辅助电极与顶电极导电地连接。本发明通过在顶电极上设置辅助电极，解决了顶电极导电性不足的问题，且辅助电极的制备方法简单，不会对顶电极造成损伤；通过在发光单元的出光侧设置光取出单元，可以提高发光器件的出光率。
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