公开(公告)号：CN101381857B

公开(公告)日：2013-03-27

申请号：CN200810213081.8

申请日：2008-08-28

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 小西池勇 ,  翁千里 ,  田边庆祐 ,  阿部淳博 ,  西山英俊 ,  川濑贤一 ,  仓泽俊佑 ,  松元浩一

IPC: C23C14/00 ,  H01M4/04 ,  H01M10/40

CPC classification number: C23C14/562 ,  H01M4/0421 ,  H01M4/131 ,  H01M4/1395 ,  H01M4/661 ,  H01M10/052 ,  H01M2200/106

Abstract: 提供一种能够稳定地形成良好质量薄膜且高度适于批量生产的蒸发设备。蒸发设备包括：蒸发源，通过加热释放蒸发材料；保持部件，保持蒸发对象；及热屏蔽部件，它布置在蒸发源与保持部件保持的蒸发对象之间，具有开口以用于汽相状态下的蒸发材料从蒸发源通过到达蒸发对象，及屏蔽蒸发对象以免受蒸发源的部分辐射热量。热屏蔽部件被布置得距离蒸发源比距离保持部件更近。

公开(公告)号：CN101381857A

公开(公告)日：2009-03-11

申请号：CN200810213081.8

申请日：2008-08-28

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 小西池勇 ,  翁千里 ,  田边庆祐 ,  阿部淳博 ,  西山英俊 ,  川濑贤一 ,  仓泽俊佑 ,  松元浩一

IPC: C23C14/00 ,  H01M4/04 ,  H01M10/40

CPC classification number: C23C14/562 ,  H01M4/0421 ,  H01M4/131 ,  H01M4/1395 ,  H01M4/661 ,  H01M10/052 ,  H01M2200/106

Abstract: 提供一种能够稳定地形成良好质量薄膜且高度适于批量生产的蒸发设备。蒸发设备包括：蒸发源，通过加热释放蒸发材料；保持部件，保持蒸发对象；及热屏蔽部件，它布置在蒸发源与保持部件保持的蒸发对象之间，具有开口以用于汽相状态下的蒸发材料从蒸发源通过到达蒸发对象，及屏蔽蒸发对象以免受蒸发源的部分辐射热量。热屏蔽部件被布置得距离蒸发源比距离保持部件更近。