公开(公告)号：CN101916824A

公开(公告)日：2010-12-15

申请号：CN200910253756.6

申请日：2009-12-17

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 上田贤司 ,  肥后智之

IPC: H01L51/00 ,  H01L51/56 ,  H01L27/32

CPC classification number: B41M5/38207 ,  B41M5/385 ,  B41M5/40 ,  B41M2205/02 ,  B41M2205/38 ,  C23C14/048 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0013 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明公开了转印基板和制造显示设备的方法。所述转印基板包括用于热转印的支撑基板和转印层。转印层设置在支撑基板上，包括主体材料和发光掺杂物材料，主体材料和发光掺杂物材料都具有升华温度。升华温度之差被设置在预定范围内。

公开(公告)号：CN101640185A

公开(公告)日：2010-02-03

申请号：CN200910160874.2

申请日：2009-07-30

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 上田贤司 ,  蚁坂裕一

IPC: H01L21/82 ,  H01L51/56

CPC classification number: H01L51/0013 ,  B41M5/42 ,  B41M5/426 ,  B41M2205/02 ,  B41M2205/38 ,  C23C14/048 ,  H01L51/56 ,  Y10T428/31678

Abstract: 本发明披露了一种转写片及其形成方法。该转写片包括支撑基板、设置在支撑基板上的光热转换层以及设置在光热转换层上的钝化层。

公开(公告)号：CN100417637C

公开(公告)日：2008-09-10

申请号：CN200610005028.X

申请日：2006-01-18

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 坂本之作 ,  宫林善久 ,  田村真一郎 ,  植田尚之 ,  上田贤司 ,  吉永祯彦

IPC: C07C211/43 ,  H05B33/14

Abstract: 提供具有通式(1)的蒽衍生物，其中X表示取代或未取代的C6-28亚芳基、或取代或未取代的C5-21二价杂环基团；A和B各自独立地表示取代或未取代的C1-20烷基、取代或未取代的C6-28芳基、或取代或未取代的C5-21杂环基团，且A和B可结合在一起形成环；Y1和Y2各自独立地表示氢原子、取代或未取代的C1-20烷基或C1-20烷氧基；和Z表示取代或未取代的C6-30芳基、取代或未取代的C5-21杂环基团、氢原子、取代或未取代的C1-20烷基、或C1-20烷氧基。

公开(公告)号：CN102909980A

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN201210422878.5

申请日：2009-12-17

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 上田贤司 ,  肥后智之

IPC: B41M5/382 ,  H01L21/77 ,  H01L51/00

CPC classification number: B41M5/38207 ,  B41M5/385 ,  B41M5/40 ,  B41M2205/02 ,  B41M2205/38 ,  C23C14/048 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0013 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/56

Abstract: 一种转印基板，包括用于热转印的支撑基板和转印层。转印层设置在支撑基板上，包括主体材料和发光掺杂物材料，主体材料和发光掺杂物材料都具有升华温度。升华温度之差被设置在预定范围内。

公开(公告)号：CN101916824B

公开(公告)日：2012-12-19

申请号：CN200910253756.6

申请日：2009-12-17

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 上田贤司 ,  肥后智之

IPC: H01L51/00 ,  H01L51/56 ,  H01L27/32

CPC classification number: B41M5/38207 ,  B41M5/385 ,  B41M5/40 ,  B41M2205/02 ,  B41M2205/38 ,  C23C14/048 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0013 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明公开了转印基板和制造显示设备的方法。所述转印基板包括用于热转印的支撑基板和转印层。转印层设置在支撑基板上，包括主体材料和发光掺杂物材料，主体材料和发光掺杂物材料都具有升华温度。升华温度之差被设置在预定范围内。

公开(公告)号：CN1807396A

公开(公告)日：2006-07-26

申请号：CN200610005028.X

申请日：2006-01-18

Applicant: 索尼株式会社

Inventor： 坂本之作 ,  宫林善久 ,  田村真一郎 ,  植田尚之 ,  上田贤司 ,  吉永祯彦

IPC: C07C211/43 ,  H05B33/14

Abstract: 提供具有通式(1)的蒽衍生物，其中X表示取代或未取代的C6－28亚芳基、或取代或未取代的C5－21二价杂环基团；A和B各自独立地表示取代或未取代的C1－20烷基、取代或未取代的C6－28芳基、或取代或未取代的C5－21杂环基团，且A和B可结合在一起形成环；Y1和Y2各自独立地表示氢原子、取代或未取代的C1－20烷基或C1－20烷氧基；和Z表示取代或未取代的C6－30芳基、取代或未取代的C5－21杂环基团、氢原子、取代或未取代的C1－20烷基、或C1－20烷氧基。