公开(公告)号：CN107006095B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201580065458.8

申请日：2015-11-11

申请人： 索尼公司

发明人： 寺本和真 ,  石井孝英 ,  安部薰

IPC分类号： H01L51/50 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22

摘要： 一种显示装置，包括规则布置的多个像素、为多个像素中的每一个设置的多个第一开口以及在规则布置的多个像素中的每一个的外围的至少一部分中的一个或多个第二开口。

公开(公告)号：CN1255864C

公开(公告)日：2006-05-10

申请号：CN02141824.1

申请日：2002-07-23

申请人： 索尼公司 ,  STLCD株式会社 ,  三菱化学株式会社

发明人： 宗像昌树 ,  小松洋仁 ,  公文哲史 ,  寺本和真 ,  合田信弘 ,  元井政和 ,  齐藤范之 ,  榊原利明 ,  石川诚

IPC分类号： H01L21/3213 ,  C23F1/30

摘要： 在基体上的银或银合金薄层通过蚀刻液而均匀地被蚀刻，而不产生蚀刻残留，同时可避免由于过度腐蚀导致的侧面腐蚀。该蚀刻液含有0.005～1重量%的银离子。蚀刻液供入罐或蚀刻液供料设备中，而后使之与基体上的银或银合金薄层接触。

公开(公告)号：CN1399317A

公开(公告)日：2003-02-26

申请号：CN02141824.1

申请日：2002-07-23

申请人： 索尼公司 ,  STLCD株式会社 ,  三菱化学株式会社

发明人： 宗像昌树 ,  小松洋仁 ,  公文哲史 ,  寺本和真 ,  合田信弘 ,  元井政和 ,  齐藤范之 ,  榊原利明 ,  石川诚

IPC分类号： H01L21/3213 ,  C23F1/30

摘要： 在基体上的银或银合金薄层通过蚀刻液而均匀地被蚀刻，而不产生蚀刻残留，同时可避免由于过度腐蚀导致的侧面腐蚀。该蚀刻液含有0.005～1重量％的银离子。蚀刻液供入罐或蚀刻液供料设备中，而后使之与基体上的银或银合金薄层接触。

公开(公告)号：CN110085631A

公开(公告)日：2019-08-02

申请号：CN201910180397.X

申请日：2015-11-11

申请人： 索尼公司

发明人： 寺本和真 ,  石井孝英 ,  安部薰

IPC分类号： H01L27/32 ,  H01L33/08 ,  H01L33/60 ,  H01L51/52

摘要： 本申请涉及一种显示装置，该显示装置包括多个发光元件，包括第一发光元件和第二发光元件；多个像素控制电路；以及多个像素限定区域；其中，多个像素限定区域中的各像素限定区域位于第一发光元件与第二发光元件之间，其中，各像素限定区域包括第一绝缘膜的第一凸起部和第一绝缘膜的第二凸起部以及位于第一凸起部和第二凸起部之间的开口，其中，第一绝缘膜与第一发光元件的阳极接触并且与第二发光元件的阳极接触，并且其中，第一凸起部具有第一高度以及第二凸起部具有第二高度。

公开(公告)号：CN110085631B

公开(公告)日：2023-05-12

申请号：CN201910180397.X

申请日：2015-11-11

申请人： 索尼公司

发明人： 寺本和真 ,  石井孝英 ,  安部薰

IPC分类号： H10K59/122 ,  H01L33/08 ,  H01L33/60 ,  H10K50/85 ,  H10K50/856

摘要： 本申请涉及一种显示装置，该显示装置包括多个发光元件，包括第一发光元件和第二发光元件；多个像素控制电路；以及多个像素限定区域；其中，多个像素限定区域中的各像素限定区域位于第一发光元件与第二发光元件之间，其中，各像素限定区域包括第一绝缘膜的第一凸起部和第一绝缘膜的第二凸起部以及位于第一凸起部和第二凸起部之间的开口，其中，第一绝缘膜与第一发光元件的阳极接触并且与第二发光元件的阳极接触，并且其中，第一凸起部具有第一高度以及第二凸起部具有第二高度。

公开(公告)号：CN107006095A

公开(公告)日：2017-08-01

申请号：CN201580065458.8

申请日：2015-11-11

申请人： 索尼公司

发明人： 寺本和真 ,  石井孝英 ,  安部薰

IPC分类号： H05B33/12 ,  H01L51/50 ,  H05B33/22

CPC分类号： H01L51/5271 ,  H01L27/3211 ,  H01L27/3246 ,  H01L2251/5315

摘要： 一种显示装置，包括规则布置的多个像素、为多个像素中的每一个设置的多个第一开口以及在规则布置的多个像素中的每一个的外围的至少一部分中的一个或多个第二开口。