-
公开(公告)号：CN109109459B
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201810638674.2
申请日：2018-06-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种表面的防液性的劣化被抑制的喷嘴板、液体喷射头及液体喷射装置。喷嘴板的特征在于，在一个面侧开口有喷射油墨的喷嘴，在一个面侧形成有DLC(类金刚石碳膜)层，DLC层的表面具有由凹部分及凸部分构成的凹凸形状，相邻的凸部分的与油墨接触一侧的端部在与一个面交叉的方向上位置有所不同。
-
公开(公告)号：CN108215500A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201711113729.X
申请日：2017-11-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/14
Abstract: 本发明提供一种抑制了可靠性的降低的液体喷射头以及液体喷射装置。液体喷射头(记录头3)的特征在于，具备结构体(流道部件18)，该结构体通过对一个方向上的两侧的端面的位置一致的多个基板(喷嘴板23、流道板27以及振动板31)进行层压而形成，多个基板(喷嘴板23、流道板27以及振动板31)中的至少两个基板在一个方向上具有不同的线膨胀率，与多个基板(喷嘴板23、流道板27以及振动板31)中的所述一个方向上的线膨胀率最大的基板相比刚性较高的保持部件(36)，被固定在结构体(流道部件18)的一个方向上的两侧的端面上。
-
公开(公告)号：CN108215500B
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201711113729.X
申请日：2017-11-13
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/14
Abstract: 本发明提供一种抑制了可靠性的降低的液体喷射头以及液体喷射装置。液体喷射头(记录头3)的特征在于，具备结构体(流道部件18)，该结构体通过对一个方向上的两侧的端面的位置一致的多个基板(喷嘴板23、流道板27以及振动板31)进行层压而形成，多个基板(喷嘴板23、流道板27以及振动板31)中的至少两个基板在一个方向上具有不同的线膨胀率，与多个基板(喷嘴板23、流道板27以及振动板31)中的所述一个方向上的线膨胀率最大的基板相比刚性较高的保持部件(36)，被固定在结构体(流道部件18)的一个方向上的两侧的端面上。
-
公开(公告)号：CN100440440C
公开(公告)日：2008-12-03
申请号：CN200510120214.3
申请日：2005-11-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 铃木聪
IPC: H01L21/28 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/66545 , H01L21/0212 , H01L21/02126 , H01L21/3122 , H01L21/3125 , H01L21/3127 , H01L29/66583
Abstract: 一种半导体装置的制造方法，包括：在基板上形成掩膜材料的掩膜材料形成工序；将上述掩膜材料构图为给定的图案，在上述掩膜材料中形成凹部的凹部形成工序；在上述凹部中配置功能液的配置工序；将配置在上述凹部中的上述功能液干燥的干燥工序；通过上述干燥工序所形成的功能膜的缓冷(烧制)工序；以及将上述掩膜材料去除，形成由上述功能液的构成材料所形成的虚设栅极图案的图案形成工序。
-
公开(公告)号：CN108621582A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201711434864.4
申请日：2017-12-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/165
Abstract: 本发明提供一种能够抑制喷嘴形成面的防液膜的劣化的擦拭部件、液体喷射装置、擦拭机构的擦拭方法以及液体喷射装置的控制方法。该擦拭部件包括沿着第一方向而对具有喷嘴形成面(23)的液体喷射头(2)的喷嘴形成面进行擦拭的纤维材料(9)，其中，在所述喷嘴形成面上开口有喷射液体的喷嘴(40)，所述擦拭部件的特征在于，在将纤维的间隙(64)的第一方向上的大小的平均值设为μf、将该间隙的大小的标准偏差设为σf、将附着于喷嘴形成面上的液体的溶质凝聚而成的凝聚物(65)的第一方向上的大小的平均值设为μa、将该凝聚物的大小的标准偏差设为σa时，满足μa+3σa≤μf+3σf。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109109467A
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201810644986.4
申请日：2018-06-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/16
Abstract: 本发明提供一种使耐久性和防液性同时实现的喷嘴板。喷嘴板(20)为设置有多个喷嘴开口(21)的喷嘴板(20)，在喷嘴板(20)的基材(硅基板(22))上设置有DLC膜(24)，DLC膜(24)含有氟，DLC膜(24)中的氟浓度沿着从DLC膜(24)的表面朝向硅基板(22)的方向而降低，与DLC膜(24)表面(平坦部(C)的表面)的氟浓度相比，沿着喷嘴开口(21)的区域(B)的氟浓度较低。
-
公开(公告)号：CN109109459A
公开(公告)日：2019-01-01
申请号：CN201810638674.2
申请日：2018-06-20
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种表面的防液性的劣化被抑制的喷嘴板、液体喷射头及液体喷射装置。喷嘴板的特征在于，在一个面侧开口有喷射油墨的喷嘴，在一个面侧形成有DLC(类金刚石碳膜)层，DLC层的表面具有由凹部分及凸部分构成的凹凸形状，相邻的凸部分的与油墨接触一侧的端部在与一个面交叉的方向上位置有所不同。
-
公开(公告)号：CN1790622A
公开(公告)日：2006-06-21
申请号：CN200510120214.3
申请日：2005-11-07
Applicant: 精工爱普生株式会社
Inventor： 铃木聪
IPC: H01L21/28 , H01L21/336
CPC classification number: H01L29/66545 , H01L21/0212 , H01L21/02126 , H01L21/3122 , H01L21/3125 , H01L21/3127 , H01L29/66583
Abstract: 一种半导体装置的制造方法，包括：在基板上形成掩膜材料的掩膜材料形成工序；将上述掩膜材料构图为给定的图案，在上述掩膜材料中形成凹部的凹部形成工序；在上述凹部中配置功能液的配置工序；将配置在上述凹部中的上述功能液干燥的干燥工序；通过上述干燥工序所形成的功能膜的缓冷(烧制)工序；以及将上述掩膜材料去除，形成由上述功能液的构成材料所形成的虚设栅极图案的图案形成工序。
-
公开(公告)号：CN109109467B
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201810644986.4
申请日：2018-06-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/16
Abstract: 本发明提供一种使耐久性和防液性同时实现的喷嘴板。喷嘴板(20)为设置有多个喷嘴开口(21)的喷嘴板(20)，在喷嘴板(20)的基材(硅基板(22))上设置有DLC膜(24)，DLC膜(24)含有氟，DLC膜(24)中的氟浓度沿着从DLC膜(24)的表面朝向硅基板(22)的方向而降低，与DLC膜(24)表面(平坦部(C)的表面)的氟浓度相比，沿着喷嘴开口(21)的区域(B)的氟浓度较低。
-
公开(公告)号：CN108621582B
公开(公告)日：2020-01-03
申请号：CN201711434864.4
申请日：2017-12-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/165
Abstract: 本发明提供一种能够抑制喷嘴形成面的防液膜的劣化的擦拭部件、液体喷射装置、擦拭机构的擦拭方法以及液体喷射装置的控制方法。该擦拭部件包括沿着第一方向而对具有喷嘴形成面(23)的液体喷射头(2)的喷嘴形成面进行擦拭的纤维材料(9)，其中，在所述喷嘴形成面上开口有喷射液体的喷嘴(40)，所述擦拭部件的特征在于，在将纤维的间隙(64)的第一方向上的大小的平均值设为μf、将该间隙的大小的标准偏差设为σf、将附着于喷嘴形成面上的液体的溶质凝聚而成的凝聚物(65)的第一方向上的大小的平均值设为μa、将该凝聚物的大小的标准偏差设为σa时，满足μa+3σa≤μf+3σf。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.022 seconds)
