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公开(公告)号:CN109109467B
公开(公告)日:2020-05-01
申请号:CN201810644986.4
申请日:2018-06-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/16
Abstract: 本发明提供一种使耐久性和防液性同时实现的喷嘴板。喷嘴板(20)为设置有多个喷嘴开口(21)的喷嘴板(20),在喷嘴板(20)的基材(硅基板(22))上设置有DLC膜(24),DLC膜(24)含有氟,DLC膜(24)中的氟浓度沿着从DLC膜(24)的表面朝向硅基板(22)的方向而降低,与DLC膜(24)表面(平坦部(C)的表面)的氟浓度相比,沿着喷嘴开口(21)的区域(B)的氟浓度较低。
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公开(公告)号:CN113696624A
公开(公告)日:2021-11-26
申请号:CN202110533928.6
申请日:2021-05-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种减少振动板的损伤的液体喷出头以及液体喷出装置。所述液体喷出头具有:压电体;振动板,其通过压电体的驱动而进行振动;压力室基板,其设置有通过振动板的振动而向液体施加压力的压力室,压力室基板、振动板以及压电体按照该顺序被层压,振动板具有:第一层,其作为构成元素而包含硅;第二层,其被配置在第一层与压电体之间,且作为构成元素而包含铬、钛以及铝中的任意一种金属元素;第三层,其被配置在第二层与压电体之间,且作为构成元素而包含锆。
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公开(公告)号:CN109109467A
公开(公告)日:2019-01-01
申请号:CN201810644986.4
申请日:2018-06-21
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/16
Abstract: 本发明提供一种使耐久性和防液性同时实现的喷嘴板。喷嘴板(20)为设置有多个喷嘴开口(21)的喷嘴板(20),在喷嘴板(20)的基材(硅基板(22))上设置有DLC膜(24),DLC膜(24)含有氟,DLC膜(24)中的氟浓度沿着从DLC膜(24)的表面朝向硅基板(22)的方向而降低,与DLC膜(24)表面(平坦部(C)的表面)的氟浓度相比,沿着喷嘴开口(21)的区域(B)的氟浓度较低。
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公开(公告)号:CN114801483A
公开(公告)日:2022-07-29
申请号:CN202210093428.X
申请日:2022-01-26
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/045
Abstract: 本发明提供一种提高从喷嘴喷射的液滴的油墨重量以及振动板的共振频率的液体喷射头以及液体喷射装置。该液体喷射头为,压力室、具备第一振动板、第二振动板以及第三振动板的振动板、压电致动器依次层叠在一起的液体喷射头,在从所述振动板和所述压电致动器的层叠方向进行的俯视观察中,所述压力室在第一方向上并排设置有多个,在所述第一方向上,在所述第一振动板和所述第二振动板中,设置有层叠了所述压电体层和所述第三振动板的部分、和未层叠有所述压电体层和所述第三振动板的部分,所述第一振动板和所述第二振动板的一方具有压缩应力,另一方具有拉伸应力,所述第三振动板的杨氏模量大于所述第一振动板以及所述第二振动板的杨氏模量。
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公开(公告)号:CN113696624B
公开(公告)日:2024-12-03
申请号:CN202110533928.6
申请日:2021-05-17
Applicant: 精工爱普生株式会社
Abstract: 本发明提供一种减少振动板的损伤的液体喷出头以及液体喷出装置。所述液体喷出头具有:压电体;振动板,其通过压电体的驱动而进行振动;压力室基板,其设置有通过振动板的振动而向液体施加压力的压力室,压力室基板、振动板以及压电体按照该顺序被层压,振动板具有:第一层,其作为构成元素而包含硅;第二层,其被配置在第一层与压电体之间,且作为构成元素而包含铬、钛以及铝中的任意一种金属元素;第三层,其被配置在第二层与压电体之间,且作为构成元素而包含锆。
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公开(公告)号:CN115139650A
公开(公告)日:2022-10-04
申请号:CN202210305385.7
申请日:2022-03-25
Applicant: 精工爱普生株式会社
IPC: B41J2/14
Abstract: 本发明提供一种对水分向振动板内部的侵入进行抑制并对出现振动板的层间剥离或裂纹等损伤的情况进行抑制的压电装置以及液体喷射头。压电装置具备:基板,其具有凹部;振动板;压电致动器,振动板具有:第一层,其作为构成元素而包含硅;第二层,其被配置在第一层与压电致动器之间,且作为构成元素而包含选自铬、钛、铝、钽、铪以及铱中的至少一种金属元素和氮化硅中的任意一方或者两方;第三层,其被配置在第二层与压电致动器之间,且作为构成元素而包含锆,在第三层的压电致动器侧具有第四层,第四层作为构成元素而包含选自铬、钛、铝、钽、铪以及铱中的至少一种金属元素和氮化硅中的任意一方或者两方。
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