电光装置用基板、该基板的制造方法及其应用、以及掩模

    公开(公告)号:CN1331007C

    公开(公告)日:2007-08-08

    申请号:CN200310121331.2

    申请日:2003-12-11

    Abstract: 本发明提供一种电光装置用基板,其特征在于,具有:基板;在基板上形成的、在表面上具有多个凹部或凸部的基底层;在基底层的上边形成的、具有光反射性的反射层,多个凹部或凸部,被形成为不与基底层的缘端进行交叉。倘采用该电光装置用基板,由于凹凸面已被曝光为使其与基底层的缘端离开,故要形成缘端的侧壁面大体上变成为平坦面。因此,在感光性材料的显影处理时,就可以避免构成基底层的感光性材料的一部分发生剥离或再附着等的缺憾。

    电光装置用基板、该基板的制造方法及其应用、以及掩模

    公开(公告)号:CN1506758A

    公开(公告)日:2004-06-23

    申请号:CN200310121331.2

    申请日:2003-12-11

    CPC classification number: G02F1/133553 G02F1/133555 G02F1/1339

    Abstract: 本发明提供一种电光装置用基板,其特征在于,具有:基板;在基板上形成的、在表面上具有多个凹部或凸部的基底层;在基底层的上边形成的、具有光反射性的反射层,多个凹部或凸部,被形成为不与基底层的缘端进行交叉。倘采用该电光装置用基板,由于凹凸面已被曝光为使其与基底层的缘端离开,故要形成缘端的侧壁面大体上变成为平坦面。因此,在感光性材料的显影处理时,就可以避免构成基底层的感光性材料的一部分发生剥离或再附着等的缺憾。

    电光装置用基板以及半透过反射基板

    公开(公告)号:CN100468162C

    公开(公告)日:2009-03-11

    申请号:CN200610146729.5

    申请日:2003-12-11

    Abstract: 本发明提供一种电光装置用基板,其特征在于,具有:基板;在基板上形成的、在表面上具有多个凹部或凸部的基底层;在基底层的上边形成的、具有光反射性的反射层,多个凹部或凸部,被形成为不与基底层的缘端进行交叉。倘采用该电光装置用基板,由于凹凸面已被曝光为使其与基底层的缘端离开,故要形成缘端的侧壁面大体上变成为平坦面。因此,在感光性材料的显影处理时,就可以避免构成基底层的感光性材料的一部分发生剥离或再附着等的缺憾。

    光电器件及其制造方法、电子装置

    公开(公告)号:CN1307472C

    公开(公告)日:2007-03-28

    申请号:CN02123147.8

    申请日:2002-06-19

    CPC classification number: G02B5/201 G02F1/133553

    Abstract: 本发明提供用于制造干涉条纹产生得少的附有光反射膜的衬底的掩模、使用它的附有光反射膜的衬底、光反射膜的制造方法、具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的衬底的光电器件,以及具有干涉条纹产生得少的附有光反射膜的衬底的电子装置。以如下方式制作附有光反射膜的衬底:以比点区数少的点数为一个单位形成透光部或不透光部,并且将其在该单位内无规则地排列,同时使用含有多个该单位的掩模,使在基体材料上形成的多个凸部的高度或凹部的深度实质上相等,以及将该多个凸部或凹部的平面形状制成独立的圆和多边形,或者某一方的平面形状,并且在平面方向随机排列多个凸部或凹部。

    电光装置用基板的制造方法和电光装置的制造方法

    公开(公告)号:CN1296775C

    公开(公告)日:2007-01-24

    申请号:CN200310100065.5

    申请日:2003-10-08

    Abstract: 采用掩模对在基板上形成的感光性树脂进行曝光。该曝光中,通过适当设定掩模的透光部大小、和曝光间隙,将感光性树脂表面上的曝光强度分布构成为沿着其表面呈曲线状增减变化,通过用该曝光强度分布进行了曝光之后进行显影,形成具有表面凹凸形状的树脂层。之后,在该树脂层上形成由金属薄膜等构成的反射层。

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