-
公开(公告)号：CN105359634A
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201480037650.1
申请日：2014-07-31
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造、且能够在保持脱模性的状态下抑制皱褶的产生。本发明为一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造，所述脱模膜的表面和背面被粗面化，所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且20μm以下，并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上(其中，不包括所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且5μm以下、并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上且36μm以下的情况)。
-
公开(公告)号：CN110602896B
公开(公告)日：2023-01-03
申请号：CN201911003268.X
申请日：2014-07-31
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造、且能够在保持脱模性的状态下抑制皱褶的产生。本发明为一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造，所述脱模膜的表面和背面被粗面化，所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且20μm以下，并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上(其中，不包括所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且5μm以下、并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上且36μm以下的情况)。
-
公开(公告)号：CN102791480B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201180013457.0
申请日：2011-03-11
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: B32B15/08 , B32B7/12 , B32B15/20 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/306 , B32B2307/538 , B32B2307/704 , B32B2307/732 , B32B2457/08
Abstract: 本发明的目的在于提供一种脱模性优异、且对于基板表面的追随性优异、能够抑制热压成形时的粘接剂的流出的脱模膜。本发明的脱模膜是具有表层的脱模膜，仅在从上述表层的表面至厚度50～300nm为止的区域中能观察到脱模处理层。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106471276B
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201580036462.1
申请日：2015-12-03
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供适合用作将构成便携电子设备的部件粘接固定于设备主体的粘合片的基材的、耐冲击性优异的冲击吸收片。另外，本发明的目的在于提供具有该冲击吸收片的冲击吸收粘合片、前面板固定用冲击吸收双面粘合片、背面板固定用冲击吸收双面粘合片及背光单元固定用冲击吸收双面粘合片。本发明为具有至少1层以上的冲击吸收层的冲击吸收片，所述冲击吸收层在23℃时的频率1.0×104～1.0×106.5Hz下的损耗角正切tanδ的最大值为0.84以上。
-
公开(公告)号：CN110602896A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201911003268.X
申请日：2014-07-31
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明的目的在于提供一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造、且能够在保持脱模性的状态下抑制皱褶的产生。本发明为一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造，所述脱模膜的表面和背面被粗面化，所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且20μm以下，并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上(其中，不包括所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且5μm以下、并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上且36μm以下的情况)。
-
公开(公告)号：CN105359634B
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201480037650.1
申请日：2014-07-31
Applicant: 积水化学工业株式会社
IPC: C08J5/18
Abstract: 本发明的目的在于提供一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造、且能够在保持脱模性的状态下抑制皱褶的产生。本发明为一种脱模膜，其适合于柔性电路基板的制造，所述脱模膜的表面和背面被粗面化，所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且20μm以下，并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上(其中，不包括所述表面的十点平均粗糙度Rz为4μm以上且5μm以下、并且构成所述背面的脱模层的厚度为35μm以上且36μm以下的情况)。
-
公开(公告)号：CN106471276A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201580036462.1
申请日：2015-12-03
Applicant: 积水化学工业株式会社
Abstract: 本发明提供适合用作将构成便携电子设备的部件粘接固定于设备主体的粘合片的基材的、耐冲击性优异的冲击吸收片。另外，本发明的目的在于提供具有该冲击吸收片的冲击吸收粘合片、前面板固定用冲击吸收双面粘合片、背面板固定用冲击吸收双面粘合片及背光单元固定用冲击吸收双面粘合片。本发明为具有至少1层以上的冲击吸收层的冲击吸收片，所述冲击吸收层在23℃时的频率1.0×104～1.0×106.5Hz下的损耗角正切tanδ的最大值为0.84以上。
-
公开(公告)号：CN102791480A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201180013457.0
申请日：2011-03-11
Applicant: 积水化学工业株式会社
CPC classification number: B32B15/08 , B32B7/12 , B32B15/20 , B32B27/32 , B32B27/36 , B32B2264/102 , B32B2264/104 , B32B2307/306 , B32B2307/538 , B32B2307/704 , B32B2307/732 , B32B2457/08
Abstract: 本发明的目的在于提供一种脱模性优异、且对于基板表面的追随性优异、能够抑制热压成形时的粘接剂的流出的脱模膜。本发明的脱模膜是具有表层的脱模膜，仅在从上述表层的表面至厚度50～300nm为止的区域中能观察到脱模处理层。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.022 seconds)
