手写识别方法、装置、电子设备和存储介质

    公开(公告)号:CN113807295B

    公开(公告)日:2023-10-27

    申请号:CN202111124148.2

    申请日:2021-09-24

    Abstract: 本发明提供一种手写识别方法、装置、电子设备和存储介质,所述方法包括:基于预设手写模式和手写轨迹序列,确定用于规整所述手写轨迹序列中各手写字符高度的目标字高;将各手写字符的高度规整至目标字高,得到规整轨迹序列;基于规整轨迹序列进行手写识别。本发明提供的手写识别方法、装置、电子设备和存储介质,能够使得各种手写模式下的各手写字符均能调整至统一的目标字高,避免各手写字符高度不一影响手写识别精度的问题。

    手写识别方法、装置、电子设备和存储介质

    公开(公告)号:CN113807295A

    公开(公告)日:2021-12-17

    申请号:CN202111124148.2

    申请日:2021-09-24

    Abstract: 本发明提供一种手写识别方法、装置、电子设备和存储介质,所述方法包括:基于预设手写模式和手写轨迹序列,确定用于规整所述手写轨迹序列中各手写字符高度的目标字高;将各手写字符的高度规整至目标字高,得到规整轨迹序列;基于规整轨迹序列进行手写识别。本发明提供的手写识别方法、装置、电子设备和存储介质,能够使得各种手写模式下的各手写字符均能调整至统一的目标字高,避免各手写字符高度不一影响手写识别精度的问题。

    一种书写美化方法、装置、设备和可读存储介质

    公开(公告)号:CN114356201B

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202111592814.5

    申请日:2021-12-23

    Abstract: 本申请公开了一种书写美化方法、装置、设备和可读存储介质,该方法包括:采集多个书写轨迹点的信息,进行笔宽估计得到笔宽,并依次利用改进的三阶贝塞尔算法进行轨迹平滑得到多个插值轨迹点的信息,其中改进的三阶贝塞尔算法使用的控制点包括当前处理的书写轨迹点及其前三个书写轨迹点,多个插值轨迹点在当前处理的书写轨迹点之前的第一个书写轨迹点与第二个书写轨迹点之间,计算每个笔段的外轮廓,通过上述方式,每获取到一个书写轨迹点,就利用它更新改进的三阶贝塞尔算法的控制点,并对它之前的第一个书写轨迹点和第二个书写轨迹点之间进行平滑,能够降低电子屏书写平滑的延迟,也就能够降低电子屏书写美化的延迟。

    一种书写美化方法、装置、设备和可读存储介质

    公开(公告)号:CN114356201A

    公开(公告)日:2022-04-15

    申请号:CN202111592814.5

    申请日:2021-12-23

    Abstract: 本申请公开了一种书写美化方法、装置、设备和可读存储介质,该方法包括:采集多个书写轨迹点的信息,进行笔宽估计得到笔宽,并依次利用改进的三阶贝塞尔算法进行轨迹平滑得到多个插值轨迹点的信息,其中改进的三阶贝塞尔算法使用的控制点包括当前处理的书写轨迹点及其前三个书写轨迹点,多个插值轨迹点在当前处理的书写轨迹点之前的第一个书写轨迹点与第二个书写轨迹点之间,计算每个笔段的外轮廓,通过上述方式,每获取到一个书写轨迹点,就利用它更新改进的三阶贝塞尔算法的控制点,并对它之前的第一个书写轨迹点和第二个书写轨迹点之间进行平滑,能够降低电子屏书写平滑的延迟,也就能够降低电子屏书写美化的延迟。

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