GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘

    公开(公告)号:CN112885417B

    公开(公告)日:2023-08-01

    申请号:CN202110085034.5

    申请日:2021-01-21

    IPC分类号: G16C60/00 G11B7/241

    摘要: 本发明公开一种GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘,GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料各组分原料重量比:MMA:100wt%,AIBN:1wt%,PQ:1.3wt%,NMP:3wt%,GO:0.0015wt%;其制备成本较低,具备良好的偏振选择性和偏振敏感度,且所制备材料厚度精准可控但光致收缩却可忽略不计;该新型光致聚合物材料具有优异衍射效率和折射率调制度,适合作为全息成像及数据存储领域应用中所需的核心记录材料,可显著提升信息存储容量,在同轴偏光全息信息存储中具有广阔的应用前景;此外,该材料良好的光学特性使其在传统体全息记录领域也颇具应用潜力。

    GO掺杂PQ-PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘

    公开(公告)号:CN112885417A

    公开(公告)日:2021-06-01

    申请号:CN202110085034.5

    申请日:2021-01-21

    IPC分类号: G16C60/00 G11B7/241

    摘要: 本发明公开一种GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料及其制备方法和全息光盘,所述GO掺杂PQ‑PMMA光致聚合物全息存储材料,其各组分原料的重量比为:MMA:100wt%,AIBN:0.7‑1wt%,PQ:1‑1.3wt%,GO:0.0005‑0.002wt%;其制备成本较低,具备良好的偏振选择性和偏振敏感度,且所制备材料厚度精准可控但光致收缩却可忽略不计;该新型光致聚合物材料具有优异衍射效率和折射率调制度,适合作为全息成像及数据存储领域应用中所需的核心记录材料,可显著提升信息存储容量,在同轴偏光全息信息存储中具有广阔的应用前景。此外,该材料良好的光学特性使其在传统体全息记录领域也颇具应用潜力。

    PQ/PMMA光致聚合物材料热聚合工艺和PQ/PMMA光致聚合物材料及其全息光盘

    公开(公告)号:CN112812210A

    公开(公告)日:2021-05-18

    申请号:CN202110085052.3

    申请日:2021-01-21

    摘要: 本发明公开一种PQ/PMMA光致聚合物材料热聚合工艺和PQ/PMMA光致聚合物材料及其全息光盘。所述热聚合工艺包括步骤:将原料,包括有MMA、AIBN和PQ,按照预设质量比进行称量配比,将配比后混合物进行振荡混合均匀,获得所述原料的混合溶液;将所述均匀混合溶液进行预聚合搅拌,获得粘稠态物质;将所述粘稠态物质倒入模具中,并进行烘烤,将所述粘稠态物质变为凝固态PQ/PMMA光致聚合物材料,然后进行拆模。本发明从材料制备热聚合工艺的角度入手,进一步提升材料的光学性能,如衍射效率、感光灵敏度等,使得材料能够更好地运用于光全息存储。