一种抗温度干扰的光学超表面聚焦成像元件及其方法

    公开(公告)号:CN110780366A

    公开(公告)日:2020-02-11

    申请号:CN201911057542.1

    申请日:2019-11-01

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明涉及一种抗温度干扰的光学超表面聚焦成像元件,所述元件包括二氧化硅基底和碳化硅纳米柱;所述纳米柱在基底上进行正方形阵列排序,并旋转预设的角度用于调制入射光的相位。本发明由亚波长间距纳米结构长方体阵列组成的超表面透镜,该透镜集成度高,尺寸小,厚度薄,可以在微米量级。

Patent Agency Ranking