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发明公开
研磨垫和使用其的研磨方法无效

公开(公告)号：CN112739496A

公开(公告)日：2021-04-30

申请号：CN201980061989.8

申请日：2019-09-12

Applicant: 福吉米株式会社

Inventor： 天高恭祐 , 菱田翔太 , 安井大祐 , 长谷英治 , 镰田透

IPC: B24B37/24 , B24D13/14 , C09G1/02 , C09K3/14 , B24B37/00 , B24B37/22 , B24B37/26

Abstract: 提供：对于以高研磨速度消除具有曲面的树脂涂装面的波纹有用的研磨垫、和使用其的研磨方法。本发明的一方式的研磨垫(10)具备具有研磨面(30)的层，具有研磨面(30)的层由片原材料构成，所述片原材料具有疏密结构，研磨面(30)的稀疏部的比率为52％以上且96％以下，且以依据JIS K 6253的方法测得的A硬度为70以上。

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