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公开(公告)号：CN101180419A
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200580041906.7
申请日：2005-11-30
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Abstract: 本发明涉及蚀刻剂或蚀刻溶液及其添加剂，制备这种蚀刻剂溶液及其添加剂的方法，使用这种蚀刻剂溶液及其添加剂对衬底图案化的方法，由此根据本发明制备的图案衬底，以及包括这种图案衬底的电子器件。一种根据本发明用于衬底的至少一个表面或表面涂层的图案蚀刻的蚀刻剂溶液包括硝酸、亚硝酸盐、由通式C(H)n(Hal)m[C(H)o(Hal)p]qCO2H表示的卤化有机酸以及余量水，其中Hal表示溴、氯、氟或碘，其中n是0，1，2或3，而m是0，1，2或3，限定条件m+n＝3；o是0或1，p是1或2，限定条件o+p＝2；q是0或1，限定条件q+m＝1，2，3或4。
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