光记录载体记录方法和设备

    公开(公告)号:CN1308931C

    公开(公告)日:2007-04-04

    申请号:CN02816493.8

    申请日:2002-07-11

    CPC classification number: G11B7/126 G11B7/00455 G11B7/013

    Abstract: 本发明涉及光记录载体记录方法,该方法用于通过将辐射束(12)引导至光记录载体(20)的记录表面(21)上来形成凹区和凸区。对于每个将被记录的凹区,辐射束被设定到至少一个能够在写功率照射周期(31)内形成凹区的写功率电平(PW),并且对于凹区之间的每个凸区,辐射束被设定到至少一个在底功率照射周期(51)内不能形成凹区的底功率电平(P0)。为了在不增加整体抖动的条件下将附加LML通道的位嵌入主通道,根据本发明提出在用于形成LML凸区的LML凸区照射周期(55)内将底功率电平(P0)临时增加到LML凸区功率电平(P11),该LML凸区功率电平(P11)接近于写功率电平(PW),以及在用于形成LML凹区的LML凹区照射周期(35)内将写功率电平(PW)临时降低到LML凹区功率电平(Pp1),该LML凹区功率电平(Pp1)接近于底功率电平(P0)。

    光记录载体记录方法和设备

    公开(公告)号:CN1547736A

    公开(公告)日:2004-11-17

    申请号:CN02816493.8

    申请日:2002-07-11

    CPC classification number: G11B7/126 G11B7/00455 G11B7/013

    Abstract: 本发明涉及光记录载体记录方法,该方法用于通过将辐射束(12)引导至光记录载体(20)的记录表面(21)上来形成凹区和凸区。对于每个将被记录的凹区,辐射束被设定到至少一个能够在写功率照射周期(31)内形成凹区的写功率电平(Pw),并且对于凹区之间的每个凸区,辐射束被设定到至少一个在底功率照射周期(51)内不能形成凹区的底功率电平(P0)。为了在不增加整体抖动的条件下将附加LML通道的位嵌入主通道,根据本发明提出在用于形成LML凸区的LML凸区照射周期(55)内将底功率电平(P0)临时增加到LML凸区功率电平(P11),该LML凸区功率电平(P11)接近于写功率电平(Pw),以及在用于形成LML凹区的LML凹区照射周期(35)内将写功率电平(Pw)临时降低到LML凹区功率电平(Pp1),该LML凹区功率电平(Pp1)接近于底功率电平(P0)。

Patent Agency Ranking