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公开(公告)号:CN114086118A
公开(公告)日:2022-02-25
申请号:CN202111319477.2
申请日:2021-11-09
Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
Abstract: 本发明公开了一种自支撑柔性LaNiO3薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)制备Sr3Al2O6靶材;(2)制备LaNiO3靶材;(3)清洗并刻蚀SrTiO3基片;(4)将Sr3Al2O6靶材、LaNiO3靶材和处理后的SrTiO3基片一同放入脉冲激光沉积系统,接着依次在SrTiO3衬底上外延生长出Sr3Al2O6和LaNiO3单晶薄膜;(5)在薄膜表面悬涂一层PMMA并加热,接着溶解;(6)PMMA和LaNiO3薄膜漂浮在水面上后,用Si片将其打捞并烘干;(7)将样品去除PMMA,取出后烘干,制得产品。Sr3Al2O6作为牺牲层用来得到柔性导电的LaNiO3薄膜,其具有质量高,简单快捷的特点。
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公开(公告)号:CN114197048A
公开(公告)日:2022-03-18
申请号:CN202111490995.0
申请日:2021-12-08
Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
Abstract: 本发明公开了一种具有二维电子气的单晶薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将氧化镧和氧化钛前驱体粉末均匀混合后研磨,并用压片机压靶,在马弗炉中高温烧结后得到LaTiO3靶材;(2)清洗并刻蚀SrTiO3基片;(3)将LaTiO3靶材和处理后的SrTiO3基片一同放入脉冲激光沉积系统,在合适的条件下生长LaTiO3单晶薄膜;(4)在真空环境下,获得不同温度下的相同厚度的LaTiO3薄膜;(5)控制不同的氧压,在薄膜生长时能达到的真空度从高真空降到低真空,每隔一个数量级生长一个薄膜,制得不同氧压下的LaTiO3薄膜。本发明通过曲线可以看出薄膜与STO界面之间都存在二维电子气,使薄膜表现出金属性。
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公开(公告)号:CN114086118B
公开(公告)日:2023-07-14
申请号:CN202111319477.2
申请日:2021-11-09
Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
Abstract: 本发明公开了一种自支撑柔性LaNiO3薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)制备Sr3Al2O6靶材;(2)制备LaNiO3靶材;(3)清洗并刻蚀SrTiO3基片;(4)将Sr3Al2O6靶材、LaNiO3靶材和处理后的SrTiO3基片一同放入脉冲激光沉积系统,接着依次在SrTiO3衬底上外延生长出Sr3Al2O6和LaNiO3单晶薄膜;(5)在薄膜表面悬涂一层PMMA并加热,接着溶解;(6)PMMA和LaNiO3薄膜漂浮在水面上后,用Si片将其打捞并烘干;(7)将样品去除PMMA,取出后烘干,制得产品。Sr3Al2O6作为牺牲层用来得到柔性导电的LaNiO3薄膜,其具有质量高,简单快捷的特点。
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公开(公告)号:CN114197048B
公开(公告)日:2024-04-09
申请号:CN202111490995.0
申请日:2021-12-08
Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
Abstract: 本发明公开了一种具有二维电子气的单晶薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将氧化镧和氧化钛前驱体粉末均匀混合后研磨,并用压片机压靶,在马弗炉中高温烧结后得到LaTiO3靶材;(2)清洗并刻蚀SrTiO3基片;(3)将LaTiO3靶材和处理后的SrTiO3基片一同放入脉冲激光沉积系统,在合适的条件下生长LaTiO3单晶薄膜;(4)在真空环境下,获得不同温度下的相同厚度的LaTiO3薄膜;(5)控制不同的氧压,在薄膜生长时能达到的真空度从高真空降到低真空,每隔一个数量级生长一个薄膜,制得不同氧压下的LaTiO3薄膜。本发明通过曲线可以看出薄膜与STO界面之间都存在二维电子气,使薄膜表现出金属性。
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公开(公告)号:CN115652258A
公开(公告)日:2023-01-31
申请号:CN202211438775.8
申请日:2022-11-17
Applicant: 电子科技大学长三角研究院(湖州)
Abstract: 本发明公开了一种具有良好电输运性能的非晶薄膜的制备方法,包括以下步骤:(1)将氧化镧和氧化钛前驱体粉末均匀混合后研磨,并用压片机压靶,在马弗炉中高温烧结后得到LaTiO3靶材;(2)清洗并刻蚀SrTiO3基片;(3)将LaTiO3靶材和处理后的SrTiO3基片一同放入脉冲激光沉积系统,在合适的条件下生长LaTiO3非晶薄膜;(4)在室温、真空环境下生长了不同厚度的非晶LaTiO3薄膜。本发明通过曲线可以看出薄膜表现出金属性,具有良好的电输运性。
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