公开(公告)号：CN109931894A

公开(公告)日：2019-06-25

申请号：CN201910231149.3

申请日：2019-03-26

Applicant: 电子科技大学

Inventor： 孙科 ,  钟秋雨 ,  邬传健 ,  余忠 ,  蒋晓娜 ,  兰中文 ,  郭荣迪

IPC: G01B15/02

Abstract: 一种NiFe或FeMn薄膜表面氧化层厚度的分析方法，属于薄膜厚度分析检测技术领域。首先，对待测薄膜进行ARXPS测试；然后，采用单值分解法和调整法相结合，对Ni、Fe、Mn单质及其氧化物的参数进行拟合，如峰位、半峰宽等；根据角分辨XPS与表面层状结构分析的基本原理和测试方法，在一定误差范围内，得出约化厚度d/λ；最后，确定其非弹性散射平均自由程λ，进而得到氧化层厚度d。本发明方法简单，对设备要求不高，能非破坏性地测量极薄氧化层的厚度，并结合磁性能研究确定薄膜的钉扎临界厚度；同时，与现有方法相比，本发明方法的拟合标准偏差明显下降，标准偏差从现有技术10.25～22.76下降到1.05～4.59。

公开(公告)号：CN109931894B

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN201910231149.3

申请日：2019-03-26

Applicant: 电子科技大学

Inventor： 孙科 ,  钟秋雨 ,  邬传健 ,  余忠 ,  蒋晓娜 ,  兰中文 ,  郭荣迪

IPC: G01B15/02

Abstract: 一种NiFe或FeMn薄膜表面氧化层厚度的分析方法，属于薄膜厚度分析检测技术领域。首先，对待测薄膜进行ARXPS测试；然后，采用单值分解法和调整法相结合，对Ni、Fe、Mn单质及其氧化物的参数进行拟合，如峰位、半峰宽等；根据角分辨XPS与表面层状结构分析的基本原理和测试方法，在一定误差范围内，得出约化厚度d/λ；最后，确定其非弹性散射平均自由程λ，进而得到氧化层厚度d。本发明方法简单，对设备要求不高，能非破坏性地测量极薄氧化层的厚度，并结合磁性能研究确定薄膜的钉扎临界厚度；同时，与现有方法相比，本发明方法的拟合标准偏差明显下降，标准偏差从现有技术10.25～22.76下降到1.05～4.59。