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公开(公告)号：CN104865768B
公开(公告)日：2018-01-12
申请号：CN201510236783.8
申请日：2015-05-11
Applicant: 电子科技大学
IPC: G02F1/29
Abstract: 本发明提供一种基于二维液晶光相控阵阵列的激光相干合成方法。为实现更多路激光束的相干合成并灵活控制各个激光束的相位，本发明将多个二维液晶光相控阵按一定规则排列组成一个大的液晶光相控阵阵列，其中每个二维液晶光相控阵可以看作液晶光相控阵阵列的一个子阵，各子阵可以独立进行控制。本发明可获得高功率高亮度的合成光束，并使合成光束在二维空间上进行非机械式偏转，减轻了系统重量，减小了系统体积，降低了系统功耗。
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公开(公告)号：CN103984183A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201410218642.9
申请日：2014-05-22
Applicant: 电子科技大学
IPC: G02F1/29
Abstract: 该发明公开了一种采用单列液晶光学相控阵的激光相干合成装置，属于液晶光学领域，特别是涉及激光通过液晶光学相控阵相干合成的技术领域。通过将若干LCOPA排成一列,各LCOPA分别外接液晶驱动电路和控制器,相干激光分别从各LCOPA背面入射，控制器控制液晶驱动电路给各LCOPA输入适当的电压，控制相干激光通过LCOPA后偏转正确的角度，最后经过偏转的多股激光发生干涉合成一股功率较强的激光，从而具有成本低、合成激光功率高、精度高、方向可变的效果。
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公开(公告)号：CN104865769B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201510236868.6
申请日：2015-05-11
Applicant: 电子科技大学
IPC: G02F1/29
Abstract: 本发明提供一种基于光相控阵阵列实现相干合成光束连续二维偏转的方法。本发明首先根据合成光束的偏转方向，设计需要给各入射光束施加的二维线性相位面；然后确定各子阵的相位补偿量，以校正因各出射光束在远场相互干涉而产生的合成光斑的偏转误差；最后综合二维线性相位面和相位补偿量生成各个子阵最终的相位调制面，调制各入射激光的相位，使合成光束精确偏转到设定方向。重复本发明步骤能够实现合成光束在横向、纵向上进行连续偏转，即实现了连续二维偏转。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104865768A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510236783.8
申请日：2015-05-11
Applicant: 电子科技大学
IPC: G02F1/29
CPC classification number: G02F1/292
Abstract: 本发明提供一种基于二维液晶光相控阵阵列的激光相干合成方法。为实现更多路激光束的相干合成并灵活控制各个激光束的相位，本发明将多个二维液晶光相控阵按一定规则排列组成一个大的液晶光相控阵阵列，其中每个二维液晶光相控阵可以看作液晶光相控阵阵列的一个子阵，各子阵可以独立进行控制。本发明可获得高功率高亮度的合成光束，并使合成光束在二维空间上进行非机械式偏转，减轻了系统重量，减小了系统体积，降低了系统功耗。
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公开(公告)号：CN104865770A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510237952.X
申请日：2015-05-11
Applicant: 电子科技大学
CPC classification number: G02F1/292 , G02B27/0938
Abstract: 本发明提供一种基于光相控阵实现激光束一维偏转与束散角缩放的方法。本发明通过液晶光相控阵给激光束调制一个同时具有线性分量和非线性分量的相位面，线性分量由激光束的偏转角决定，非线性分量则由激光束的束散角决定。本发明通过一块液晶光相控阵同时实现激光束的偏转和束散角缩放，降低了系统的复杂性和功耗，增加了系统的灵活性，操作简便。
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公开(公告)号：CN103984182A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201410217835.2
申请日：2014-05-22
Applicant: 电子科技大学
IPC: G02F1/29
Abstract: 该发明公开了一种采用液晶光学相控阵阵列的激光相干合成方法，属于液晶光学领域，通过按照矩阵的方式排列若干LCOPA，各LCOPA分别外接液晶驱动电路和控制器，相干激光分别从各LCOPA背面入射，控制器控制液晶驱动电路给各LCOPA输入适当的电压，控制相干激光通过LCOPA后偏转相同的角度，最后经过偏转的多股激光发生干涉合成一股功率较强的激光，实现发明目的，从而具有合成激光功率高、精度高、波束指向可变的效果。
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公开(公告)号：CN104865769A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201510236868.6
申请日：2015-05-11
Applicant: 电子科技大学
IPC: G02F1/29
CPC classification number: G02F1/292
Abstract: 本发明提供一种基于光相控阵阵列实现相干合成光束连续二维偏转的方法。本发明首先根据合成光束的偏转方向，设计需要给各入射光束施加的二维线性相位面；然后确定各子阵的相位补偿量，以校正因各出射光束在远场相互干涉而产生的合成光斑的偏转误差；最后综合二维线性相位面和相位补偿量生成各个子阵最终的相位调制面，调制各入射激光的相位，使合成光束精确偏转到设定方向。重复本发明步骤能够实现合成光束在横向、纵向上进行连续偏转，即实现了连续二维偏转。
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公开(公告)号：CN104280974A
公开(公告)日：2015-01-14
申请号：CN201410444234.5
申请日：2014-09-02
Applicant: 电子科技大学
IPC: G02F1/29
CPC classification number: G02F1/292 , G02F2001/294
Abstract: 该发明一种基于液晶相控阵的聚焦式相干合成方法，属于液晶相控阵领域，特别是涉及一种采用液晶相控阵进行激光相位调制的聚焦式相干合成方法。液晶相控阵可以对入射激光进行相位调制，控制出射激光使其偏转不同的角度，多个液晶相控阵按照一定方式排列组成激光出射阵列，多束相干激光通过阵列后，分别偏转不同的角度，以聚焦的形式照射到目标位置；多束相干激光在目标位置相遇，实现相干合成，基于聚焦式相干合成方式，目标位置可以在从近到远的任意位置选取，从而具有在近距离和远距离空间均能够进行相干合成、提升激光强度的效果。
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