公开(公告)号：CN107530775A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680023030.1

申请日：2016-04-18

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 约书亚·M·阿比沙斯 ,  乔丹·B·泰伊

IPC: B22F3/105 ,  H01J37/317 ,  B33Y10/00 ,  B33Y80/00

Abstract: 本文提供使用增材制造工艺(例如，3‑D打印)形成内嵌于半导体制造装置(例如，离子植入机)的组件内的导管的方式，其中所述导管被配置成将流体递送经过整个组件以对其提供加热、冷却及气体分配。在一种方式中，导管包括形成于所述导管的内表面上的一组凸起表面特征，以改变导管内的流体流动特性。在另一方式中，导管可以螺旋构形形成。在另一方式中，导管形成有多边形横截面。在另一方式中，离子植入机的组件包括以下中的至少一者：离子源、淹没式等离子体枪、冷却板、台板和/或弧室基座。

公开(公告)号：CN107530775B

公开(公告)日：2020-06-16

申请号：CN201680023030.1

申请日：2016-04-18

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 约书亚·M·阿比沙斯 ,  乔丹·B·泰伊

IPC: B22F3/105 ,  H01J37/317 ,  B33Y10/00 ,  B33Y80/00

Abstract: 本文提供使用增材制造工艺(例如，3‑D打印)形成内嵌于半导体制造装置(例如，离子植入机)的组件内的导管的方式，其中所述导管被配置成将流体递送经过整个组件以对其提供加热、冷却及气体分配。在一种方式中，导管包括形成于所述导管的内表面上的一组凸起表面特征，以改变导管内的流体流动特性。在另一方式中，导管可以螺旋构形形成。在另一方式中，导管形成有多边形横截面。在另一方式中，离子植入机的组件包括以下中的至少一者：离子源、淹没式等离子体枪、冷却板、台板和/或弧室基座。