成像设备
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112020328B

    公开(公告)日:2025-01-07

    申请号:CN201980028153.8

    申请日:2019-04-26

    Abstract: 成像设备包括:第一闪烁体层;检测器元件阵列,其中检测器元件阵列包括第一检测器元件;第二闪烁体层,被配置为接收在辐射已经传递通过第一闪烁体层和检测器元件阵列之后的辐射,其中检测器元件阵列位于第一闪烁体层和第二闪烁体层之间;第一电极,位于比第二闪烁体更靠近第一闪烁体的位置;以及第二电极,处于第二闪烁体和第一检测器元件之间;第一检测器元件被配置为响应于来自第一闪烁体层的光而生成第一电信号,以及响应于来自第二闪烁体层的光而生成第二电信号;第二电极被配置为允许来自第二闪烁体层的光到达第一检测器元件。

    成像设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112020328A

    公开(公告)日:2020-12-01

    申请号:CN201980028153.8

    申请日:2019-04-26

    Abstract: 成像设备包括:第一闪烁体层;检测器元件阵列,其中检测器元件阵列包括第一检测器元件;第二闪烁体层,被配置为接收在辐射已经传递通过第一闪烁体层和检测器元件阵列之后的辐射,其中检测器元件阵列位于第一闪烁体层和第二闪烁体层之间;第一电极,位于比第二闪烁体更靠近第一闪烁体的位置;以及第二电极,处于第二闪烁体和第一检测器元件之间;第一检测器元件被配置为响应于来自第一闪烁体层的光而生成第一电信号,以及响应于来自第二闪烁体层的光而生成第二电信号;第二电极被配置为允许来自第二闪烁体层的光到达第一检测器元件。

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