高DQE成像设备
    1.
    发明公开
    高DQE成像设备 审中-实审

    公开(公告)号:CN108369281A

    公开(公告)日:2018-08-03

    申请号:CN201680070933.5

    申请日:2016-09-29

    CPC classification number: G01T1/2018 G01T1/2002

    Abstract: 一种成像设备,包括:闪烁体层;以及光电二极管元件阵列;其中闪烁体层被配置为接收已经穿过光电二极管元件阵列之后的辐射。一种成像设备,包括:闪烁体层,具有多个闪烁体元件,多个闪烁体元件被配置为将辐射转换为光子;以及光电二极管元件阵列,被配置为从闪烁体层接收光子,并且响应于接收到的光子,生成电信号;其中闪烁体元件中的至少两个闪烁体元件由空气间隙分离。一种成像设备,包括:第一闪烁体层,具有被布置在第一平面中的多个闪烁体元件;以及第二闪烁体层,具有被布置在第二平面中的多个闪烁体元件;其中第一闪烁体层和第二闪烁体层被布置为邻近彼此,并且相对于彼此形成非零角。

Patent Agency Ranking