半导体器件
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1227973A

    公开(公告)日:1999-09-08

    申请号:CN99102738.8

    申请日:1999-03-03

    Inventor: 大洼宏明

    Abstract: 在MOSFET半导体器件中,在沟道区内的源-漏间的电流路径中,含有与隔离区接触的部分的路径包括一其长度不短于所述源-漏间最小距离且不与所述隔离区接触的路径。

Patent Agency Ranking