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公开(公告)号：CN102378939B
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201080015261.0
申请日：2010-03-25
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供掩膜用部件，所述掩膜用部件具有紫外线透过性的基材膜和在基材膜的单面上通过激光光线的照射能除去的平均厚度0.1～30μm的紫外线屏蔽性树脂层，所述紫外线屏蔽性树脂层为具有炭黑含量多的树脂层(A)和炭黑含量少的树脂层(B)的2层以上的层叠结构体且所述(A)层位于基材膜侧、所述(B)层位于印刷版侧，同时具有特定的光学特性的掩膜用部件。该掩膜用部件具有以下特征：可以在用低能量的激光精密且准确地除去紫外线屏蔽性树脂层的部分得到均匀的透光性，且不易对紫外线屏蔽性树脂层造成损伤，定位作业容易，在与版密合时不易笼入空气，整面易密合在版材上。
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公开(公告)号：CN102378939A
公开(公告)日：2012-03-14
申请号：CN201080015261.0
申请日：2010-03-25
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明提供掩膜用部件，所述掩膜用部件具有紫外线透过性的基材膜和在基材膜的单面上通过激光光线的照射能除去的平均厚度0.1～30μm的紫外线屏蔽性树脂层，所述紫外线屏蔽性树脂层为具有炭黑含量多的树脂层(A)和炭黑含量少的树脂层(B)的2层以上的层叠结构体且所述(A)层位于基材膜侧、所述(B)层位于印刷版侧，同时具有特定的光学特性的掩膜用部件。该掩膜用部件具有以下特征：可以在用低能量的激光精密且准确地除去紫外线屏蔽性树脂层的部分得到均匀的透光性，且不易对紫外线屏蔽性树脂层造成损伤，定位作业容易，在与版密合时不易笼入空气，整面易密合在版材上。
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