-
公开(公告)号：CN1366544A
公开(公告)日：2002-08-28
申请号：CN01800796.1
申请日：2001-03-05
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: C09J7/02
CPC classification number: C09J7/29 , C09J7/38 , C09J2400/163 , C09J2400/283 , C09J2423/005 , C09J2433/00 , C09J2433/005 , Y10T428/14 , Y10T428/1405 , Y10T428/1471 , Y10T428/1476 , Y10T428/2839
Abstract: 本发明公开了一种难以对硬盘驱动器等产生不利影响的压敏粘合剂片材和粘接体。粘接体由具有压敏粘合剂基材和压敏粘合剂层的压敏粘合剂片材、和具有脱离片材基材和脱离剂层的脱离片材构成,且所述脱离片材粘附到压敏粘合剂片材上以使所述脱离剂层接触所述压敏粘合剂层。在粘接体中,压敏粘合剂片材中的硅氧烷化合物的含量不高于500微克/米2。另外,在85℃下30分钟内由压敏粘合剂片材产生的气体的量优选不高于20毫克/米2。另外,包含在该压敏粘合剂片材中的NOx－、Cl－、PO43－、K+、F－、Na+和Ca2+的总量还优选不高于20毫克/米2。
-
公开(公告)号：CN1272641C
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN02108218.9
申请日：2002-03-27
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: G02B1/111
Abstract: 一种光学用膜，包括：(A)包含通过电离放射线固化的树脂的硬涂层，(B)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.70至1.95范围内的高折射率层I，(C)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.60至1.70范围内的高折射率层II，和(D)包含硅氧烷类聚合物的、折射率在1.37至1.47范围内的低折射率层，(A)至(D)层依次层叠在基膜的至少一面上。所述膜表现出极好的防反光性和极好的耐划痕性，可以低成本生产。
-
公开(公告)号：CN1261774C
公开(公告)日：2006-06-28
申请号：CN02119878.0
申请日：2002-05-17
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: G02B1/04
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/16 , G02B1/18 , H01J2211/44 , Y10S428/913 , Y10T428/24975 , Y10T428/256 , Y10T428/26 , Y10T428/263 , Y10T428/264 , Y10T428/265 , Y10T428/31663
Abstract: 一种光学用膜，包括：(A)包含通过电离辐射固化的树脂的硬涂层，(B)包含通过电离辐射固化的树脂和包括掺锑氧化锡的至少两种金属氧化物的、折光指数在1.65至1.80范围内的高折射率层，和(C)包含硅氧烷基聚合物的、折光指数在1.37至1.47范围内的低折射率层，(A)至(D)层都有特定的厚度，依次层叠在基膜的至少一面上。所述膜表现出极好的防反光性和极好的耐划痕性，可以低成本生产。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1185318C
公开(公告)日：2005-01-19
申请号：CN01800796.1
申请日：2001-03-05
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: C09J7/02
CPC classification number: C09J7/29 , C09J7/38 , C09J2400/163 , C09J2400/283 , C09J2423/005 , C09J2433/00 , C09J2433/005 , Y10T428/14 , Y10T428/1405 , Y10T428/1471 , Y10T428/1476 , Y10T428/2839
Abstract: 本发明公开了一种难以对硬盘驱动器等产生不利影响的压敏粘合剂片材和粘接体。粘接体由具有压敏粘合剂基材和压敏粘合剂层的压敏粘合剂片材、和具有脱离片材基材和脱离剂层的脱离片材构成，且所述脱离片材粘附到压敏粘合剂片材上以使所述脱离剂层接触所述压敏粘合剂层。在粘接体中，压敏粘合剂片材中的硅氧烷化合物的含量不高于500微克/米2。另外，在85℃下30分钟内由压敏粘合剂片材产生的气体的量优选不高于20毫克/米2。另外，包含在该压敏粘合剂片材中的NOx-、Cl-、PO43-、K+、F-、Na+和Ca2+的总量还优选不高于20毫克/米2。
-
公开(公告)号：CN100406916C
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN02150275.7
申请日：2002-11-07
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: C08J7/045 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B1/18 , Y10T428/24504 , Y10T428/24802 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495 , Y10T428/26
Abstract: 一种光学应用的膜，包括(A)含有金属氧化物和通过热或离子辐射固化的物质的硬涂层，其厚度为2-20μm，和(B)含有多孔硅石和聚硅氧烷基聚合物的低折射层，其折射率为1.30-1.45，厚度为40-200nm，层(A)和层(B)相继地层叠在基质膜的至少一个表面上。该膜具有优异的防止光反射的性能和优异的耐划伤性，并且能够以低的成本制造。
-
公开(公告)号：CN1387052A
公开(公告)日：2002-12-25
申请号：CN02119878.0
申请日：2002-05-17
Applicant: 琳得科株式会社
IPC: G02B1/04
CPC classification number: G02B1/14 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/16 , G02B1/18 , H01J2211/44 , Y10S428/913 , Y10T428/24975 , Y10T428/256 , Y10T428/26 , Y10T428/263 , Y10T428/264 , Y10T428/265 , Y10T428/31663
Abstract: 一种光学用膜,包括:(A)包含通过电离辐射固化的树脂的硬涂层,(B)包含通过电离辐射固化的树脂和包括掺锑氧化锡的至少两种金属氧化物的、折光指数在1.65至1.80范围内的高折射率层,和(C)包含硅氧烷基聚合物的、折光指数在1.37至1.47范围内的低折射率层,(A)至(D)层都有特定的厚度,依次层叠在基膜的至少一面上。所述膜表现出极好的防反光性和极好的耐划痕性,可以低成本生产。
-
公开(公告)号：CN1419137A
公开(公告)日：2003-05-21
申请号：CN02150275.7
申请日：2002-11-07
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: C08J7/045 , G02B1/105 , G02B1/111 , G02B1/14 , G02B1/16 , G02B1/18 , Y10T428/24504 , Y10T428/24802 , Y10T428/24942 , Y10T428/2495 , Y10T428/26
Abstract: 一种光学应用的膜，包括(A)含有金属氧化物和通过热或离子辐射固化的物质的硬涂层，其厚度为2－20μm，和(B)含有多孔硅石和聚硅氧烷基聚合物的低折射层，其折射率为1.30－1.45，厚度为40－200nm，层(A)和层(B)相继地层叠在基质膜的至少一个表面上。该膜具有优异的防止光反射的性能和优异的耐划伤性，并且能够以低的成本制造。
-
公开(公告)号：CN1378089A
公开(公告)日：2002-11-06
申请号：CN02108218.9
申请日：2002-03-27
Applicant: 琳得科株式会社
CPC classification number: G02B1/111
Abstract: 一种光学用膜,包括:(A)包含通过电离放射线固化的树脂的硬涂层,(B)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.70至1.95范围内的高折射率层I,(C)包含通过电离放射线固化的树脂和金属氧化物的、折射率在1.60至1.70范围内的高折射率层II,和(D)包含硅氧烷类聚合物的、折射率在1.37至1.47范围内的低折射率层,(A)至(D)层依次层叠在基膜的至少一面上。所述膜表现出极好的防反光性和极好的耐划痕性,可以低成本生产。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.017 seconds)
