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公开(公告)号：CN119744052A
公开(公告)日：2025-04-01
申请号：CN202411334817.2
申请日：2024-09-24
Applicant: 琳得科株式会社
Abstract: 本发明涉及保护膜形成膜，其用于在通过对工件进行加工而得到的工件加工物的任一位置形成保护膜，当保护膜形成膜为固化性时，保护膜形成膜的固化物的420~700nm的全波长范围的光的反射率为22%以上，且所述固化物的波长532nm及1064nm中的任意一者或两者的光的吸收率为7%以上，当保护膜形成膜为非固化性时，保护膜形成膜的420~700nm的全波长范围的光的反射率为22%以上，且所述保护膜形成膜的波长532nm及1064nm中的任意一者或两者的光的吸收率为7%以上。由此，可提供即使为用于使带保护膜的工件加工物在白色基板上不显眼的光反射率高的保护膜，也能够充分地对保护膜施加深色的印字的保护膜形成膜。
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