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公开(公告)号：CN113250793A
公开(公告)日：2021-08-13
申请号：CN202010930726.0
申请日：2020-09-07
IPC: F01N3/20
Abstract: 本发明涉及一种废气后处理系统，该系统包括：排气管，用于引导废气流；以及还原剂喷射器，被构造成突出到排气管内，并且通过喷射器喷嘴将还原剂喷射到废气流中，其中，喷射器喷嘴包括布置在喷嘴壳体内的喷嘴销，使得在喷嘴销的外侧表面与喷嘴壳体的内侧表面之间形成喷射通道，还原剂通过喷射通道排出到废气流中，喷射通道形成为使还原剂加速。
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