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公开(公告)号:CN102449745A
公开(公告)日:2012-05-09
申请号:CN201080025040.1
申请日:2010-04-30
Applicant: 狮王株式会社
IPC: H01L21/304
CPC classification number: C11D3/046 , C11D3/2075 , C11D3/33 , C11D3/3947 , C11D7/10 , C11D7/265 , C11D7/3245 , C11D11/0047 , H01L21/02052
Abstract: 提供一种清洗方法,尤其可以高洁净度地除去附着在半导体用基板上的有机物污渍、粒子污渍以及金属污渍,且可以降低由于所述洁净而对环境产生的负荷。半导体用基板的清洗方法,其特征在于,包括使用清洗剂组合物清洗半导体用基板的第一清洗工序、和使用含有螯合剂(B2)的酸性溶液清洗已在所述第一清洗工序清洗过的半导体用基板的第二清洗工序,所述清洗剂用组合物含有:含有过渡金属的水溶性盐(A)、螯合剂(B1)和过氧化物(C),且所述螯合剂(B1)的比例相对于所述含有过渡金属的水溶性盐(A)为0.5摩尔当量以上。
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公开(公告)号:CN101500536A
公开(公告)日:2009-08-05
申请号:CN200780030101.1
申请日:2007-09-04
Applicant: 狮王株式会社
Abstract: 本发明提供一种毛发化妆品,该毛发化妆品通过将(A)脱乙酰壳多糖类与(B)聚氨酯树脂并用,可以向由于染发或是烫发的化学处理等而受到损伤并变脆弱的、细柔的毛发赋予张力·弹性,而且使毛发易于梳理,没有吱吱作响,并变得柔韧,抑制发粘、发硬,能够向毛发赋予良好的触感。
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公开(公告)号:CN101500536B
公开(公告)日:2011-12-28
申请号:CN200780030101.1
申请日:2007-09-04
Applicant: 狮王株式会社
Abstract: 本发明提供一种毛发化妆品,该毛发化妆品通过将(A)脱乙酰壳多糖类与(B)聚氨酯树脂并用,可以向由于染发或是烫发的化学处理等而受到损伤并变脆弱的、细柔的毛发赋予张力·弹性,而且使毛发易于梳理,没有吱吱作响,并变得柔韧,抑制发粘、发硬,能够向毛发赋予良好的触感。
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