一种高能量利用率高均匀性的光束整形控制方法

    公开(公告)号:CN112558312B

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202011559295.8

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种高能量利用率高均匀性的光束整形控制方法,生成以闪耀光栅为背景的纯黑掩模全息图;纯黑掩模内部加载中间灰度级高四周灰度级逐渐降低的正交光栅,获得混合全息图;将混合全息图加载到空间光调制器上,电脑控制激光器输出激光入射空间光调制器中;通过光阑去正1阶光;光束再经过分束镜分别进入CCD相机和3轴加工平台。本发明操作方便,使用灵活;可以按照目标需要制作不同尺寸不同形状的大掩模全息图;方便改变需要整形的光斑形状及尺寸,将高斯光整形为平顶光。

    一种高能量利用率高均匀性的光束整形控制方法

    公开(公告)号:CN112558312A

    公开(公告)日:2021-03-26

    申请号:CN202011559295.8

    申请日:2020-12-25

    Abstract: 本发明公开了一种高能量利用率高均匀性的光束整形控制方法,生成以闪耀光栅为背景的纯黑掩模全息图;纯黑掩模内部加载中间灰度级高四周灰度级逐渐降低的正交光栅,获得混合全息图;将混合全息图加载到空间光调制器上,电脑控制激光器输出激光入射空间光调制器中;通过光阑去正1阶光;光束再经过分束镜分别进入CCD相机和3轴加工平台。本发明操作方便,使用灵活;可以按照目标需要制作不同尺寸不同形状的大掩模全息图;方便改变需要整形的光斑形状及尺寸,将高斯光整形为平顶光。

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