一种能够抑制铜挤出的硅通孔及其制备方法

    公开(公告)号:CN117758217A

    公开(公告)日:2024-03-26

    申请号:CN202311672459.1

    申请日:2023-12-06

    Abstract: 本发明公开了一种能够抑制铜挤出的硅通孔及其制备方法,本发明使用磁控溅射在TSV底部沉积一定厚度的ZrW2‑xMoxO8薄膜,然后电镀一定厚度的铜后,重复上述步骤,在Cu中间沉积多层ZrW2‑xMoxO8薄膜;而ZrW2‑xMoxO8是一种具有负热膨胀系数的材料,热膨胀系数为‑4.3×10‑6至‑7.7×10‑6K‑1,这种材料在加热时收缩而不是膨胀,在硅通孔的热处理(例如退火)或温度循环期间,硅通孔中的Cu会膨胀,而ZrW2‑xMoxO8材料发生收缩而不是膨胀,可以部分抵消硅通孔组成材料之间的热膨胀系数不匹配引起的热诱导应力。因此,本发明制备方法制备的硅通孔能够提高铜填充TSV的可靠性,同时允许优化器件性能(例如,允许铜的更高温度退火)。

    一种泡沫铜填充垂直硅通孔的方法及应用

    公开(公告)号:CN117747541A

    公开(公告)日:2024-03-22

    申请号:CN202311547940.8

    申请日:2023-11-20

    Abstract: 本发明公开了一种泡沫铜填充垂直硅通孔的方法,包括以下步骤:(1)以TSV样品作为发泡容器,制备得到填充聚氨酯泡沫塑料的TSV样品;(2)除油处理;(3)一次粗化处理;(4)二次粗化处理;(5)敏化处理;(6)活化处理;(7)一次还原处理;(8)二次还原处理;(9)化学镀铜处理;(10)电镀铜处理;(11)高温处理;(12)清洗,烘干,即得泡沫铜填充的TSV样品。本发明还提供了泡沫铜在作为垂直硅通孔的填充材料中的应用。本发明以泡沫铜作为TSV金属层的填充材料,既保持了铜的高热导率、高电导率的特点,同时又因为泡沫铜具有多孔机构,在受热膨胀时不易产生铜挤出现象,提高了TSV的可靠性。

    一种多功能支撑架
    3.
    实用新型

    公开(公告)号:CN207653804U

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:CN201720825580.7

    申请日:2017-07-07

    Applicant: 清华大学

    Abstract: 本实用新型涉及一种多功能支撑架,属于日常生活必需品技术领域。本实用新型设计的多功能支撑架,以阻尼器和铰链结构连接的支撑架,具有多个自由度,可以很方便地调节高度和角度,适应多种使用需要。装置还设置有充电设备与照明系统和多功能安装板,安装板包括下固定夹板和可通过滑轨移动的上固定夹板。在基板上加入了两侧的左、右金属压杆,左、右活动板,以及左、右弹簧等部件,在增大可支撑面积的同时,还可以不遮挡屏幕地夹持平板电脑等电子产品。此外,基板或活动板的侧面设置了USB插孔,既可用于充电,又可以连接USB-LED小台灯,进行照明。

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