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公开(公告)号：CN101808459A
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN201010125946.2
申请日：2010-03-16
Applicant: 清华大学
Abstract: 本发明公开了一种用于对管状高分子材料支架内表面进行改性的低温等离子体处理装置。该装置包括：电极环(7)及石英放电管(6)，其两端分别与快速真空密封接头(13)连接，通过锁紧螺母(5)、(8)固定于真空快速转接管(4)、(9)；其中，一端通过真空转接管连接于进气口；另一端通过真空转接管连接至三通，三通的另外两端分别为气压计接口及机械泵接口。利用本发明所述装置，可产生细长、均匀的等离子体，用于对管状高分子材料支架内壁进行改性处理，使其内表面活化或接入活性基团而不改变支架本体性质，且工作温度低，不会对材料产生热损伤，在组织工程学、再生医学领域具有广阔的应用前景。
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