辐照装置及其控制方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101110280A

    公开(公告)日:2008-01-23

    申请号:CN200710130623.0

    申请日:2007-07-11

    IPC分类号: G21K5/00 G21K5/04

    摘要: 本发明提供了一种辐照装置及其控制方法,该装置包括电子加速器、与电子加速器相连接的扫描盒,在扫描盒上设有扫描磁铁、靶和电子束出射窗,电子束出射窗位于靶的左侧或右侧。本发明积极效果是:本发明集现有的电子束引出式辐照装置和X射线引出式辐照装置的功能于一体,当扫描磁铁工作时,加速器辐照装置引出电子束流;当扫描磁铁不工作时,则引出X射线。即可以引出电子束和X射线两种辐照源,以满足不同体积的辐照物品对象的加工要求。利用本发明可以在几乎不增加成本的情况下扩大应用范围,同时提高了系统的安全性能,有利于提高辐照系统的寿命和利用率。

    一种可吸收剩余电子束的辐照装置

    公开(公告)号:CN1992097A

    公开(公告)日:2007-07-04

    申请号:CN200510136316.4

    申请日:2005-12-31

    IPC分类号: G21K5/00

    摘要: 本发明公开了一种可吸收剩余电子束的辐照装置,属于辐射加工技术领域。它包括电子直线加速器,与电子直线加速器连接的电子束漂移扫描架,置于电子束漂移扫描架下方、可放置受辐照物的机械传送机构。其结构特点是,在电子束漂移扫描架的正下方、机械传送机构的底部置有电子束吸收器。电子束吸收器与电子直线加速器之间通过导线连接形成电子学回路,使热量传导。使用本发明,可降低电子束辐照装置中防护层的厚度,节省成本,减小体积与重量,防止电荷与热量的局部累积,实现电子束辐照装置的自屏蔽和小型化,可进一步扩大电子束辐照装置的应用范围。

    高压自动转换开关
    5.
    实用新型

    公开(公告)号:CN2922102Y

    公开(公告)日:2007-07-11

    申请号:CN200620123929.4

    申请日:2006-07-17

    摘要: 本实用新型涉及一种开关。本实用新型高压自动转换开关包括支架和控制电路板,支架中的U形绝缘架的两个相对面板上各自安装有四个高压触点,支架上安装有电机,电机的输出轴伸入到U形绝缘架内,端部安装两个分别与高压触点配合工作的转子;电机的输出轴上固定有位置触块,支架上设有两个与位置触块配合工作的限位开关。本实用新型的积极效果是:具有50KV以上的耐压性能,允许通过的脉冲电流不小于500A,接触性能好,稳定性高,能自动转换。本实用新型高压自动转换开关在加速器系统中进行功率源高压的自动切换,使加速器获得不同能量的电子束流,对加速器应用范围的扩大,对工业无损检测系统、海关集装箱检测系统、高能CT系统的升级换代具有重要意义。

    可吸收剩余电子束的辐照装置

    公开(公告)号:CN2870087Y

    公开(公告)日:2007-02-14

    申请号:CN200520136583.7

    申请日:2005-12-31

    IPC分类号: G21K5/00

    摘要: 本实用新型公开了一种可吸收剩余电子束的辐照装置,属于辐射加工技术领域。它包括电子直线加速器,与电子直线加速器连接的电子束漂移扫描架,置于电子束漂移扫描架下方、可放置受辐照物的机械传送机构。其结构特点是,在电子束漂移扫描架的正下方、机械传送机构的底部置有电子束吸收器。电子束吸收器与电子直线加速器之间通过导线连接形成电子学回路,使热量传导。使用本实用新型,可降低电子束辐照装置中防护层的厚度,节省成本,减小体积与重量,防止电荷与热量的局部累积,实现电子束辐照装置的自屏蔽和小型化,可进一步扩大电子束辐照装置的应用范围。

    可双源引出的辐照装置
    8.
    实用新型

    公开(公告)号:CN200953681Y

    公开(公告)日:2007-09-26

    申请号:CN200620123928.X

    申请日:2006-07-17

    IPC分类号: H05G1/00

    摘要: 本实用新型涉及一种辐射加工领域的辐照装置。本实用新型可双源引出的辐照装置包括电子直线加速器、通过法兰安装在电子直线加速器上的扫描盒,在扫描盒上设有扫描磁铁、靶和钛窗,钛窗位于靶的左侧或右侧,扫描盒上设有用于冷却靶和钛窗的冷却水路。本实用新型积极效果是:本实用新型集成了现有的电子束引出式辐照装置和X射线引出式辐照装置的功能于一体,当扫描磁铁工作时,加速器辐照装置引出电子束流;当扫描磁铁不工作时,则引出X射线。即可以引出电子束和X射线两种辐照源,以满足不同体积的辐照物品对象的加工要求。利用本实用新型可以在几乎不增加成本的情况下扩大应用范围,同时提高了系统的安全性能,有利于提高辐照系统的寿命和利用率。