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公开(公告)号：CN110190070B
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN201910456905.2
申请日：2019-05-29
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人： 吴豪旭
IPC分类号： H01L27/12
摘要： 本发明披露一种三维多孔结构复合体材料及制备方法、阵列基板。所述阵列基板中的金属电极层均采用低反射且具有三维多孔结构复合体材料，从而能够加强对可见光源的吸收，并且降低其反射率，以进一步提高对比度和观赏视觉效果。
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公开(公告)号：CN108950557A
公开(公告)日：2018-12-07
申请号：CN201810795064.3
申请日：2018-07-19
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
摘要： 本发明提供了一种蚀刻液组合物，包括如下重量分数的各组分：所述蚀刻液组合物包括如下重量分数的各组分：过氧化氢5～30％，过氧化氢稳定剂0.1～5％，蚀刻缓蚀剂0.001～0.2％，蚀刻添加剂5～20％，pH调节剂0.1～5％，蚀刻形状控制剂2～15％，表面活性剂0.1～1％，以及余量的去离子水，所述蚀刻形状控制剂为醇胺类化合物。该蚀刻液组合物不含氟化物，对环境友好，可降低对操作人员的危害，降低废液处理成本，且蚀刻过程稳定、蚀刻速率适中，能有效避免掏空现象的产生，最终得到形状良好的金属布线结构。本发明还提供了该铜/钼蚀刻液组合物在显示面板制备中的应用。
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公开(公告)号：CN113097228A
公开(公告)日：2021-07-09
申请号：CN202110311433.9
申请日：2021-03-24
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人： 吴豪旭
摘要： 本申请提供一种遮光基板及其制备方法和阵列基板。遮光基板包括：基板和设置于所述基板一侧的遮光层，所述遮光层的材料为黑色介孔金属氧化物。当所述遮光基板用来制备阵列基板时，黑色介孔金属氧化物可以加强对可见光的吸收和散射，从而降低阵列基板上金属层对入射光线的反射率。当所述阵列基板用来制备显示面板时，可以提高显示面板的对比度和视觉效果。
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公开(公告)号：CN111574379A
公开(公告)日：2020-08-25
申请号：CN202010401920.X
申请日：2020-05-13
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人： 吴豪旭
IPC分类号： C07C201/12 , C07C205/37 , B01J13/00 , H01L27/12
摘要： 本发明公开了一种水凝胶及制备方法、柔性面板及制备方法，其中水凝胶化学结构式为 所述R2为烃基长链。本发明的有益效果在于，本发明的一种水凝胶及制备方法、柔性面板及制备方法。通过水凝胶的制备方法制备出水凝胶，柔性面板利用水凝胶的特性，在水凝胶中掺杂陶瓷颗粒形成缓冲层，采用先光照再酸化的步骤，实现柔性层与基板的无损剥离，可以减少激光剥离技术对柔性层的不良影响，从而提高柔性面板的使用寿命。
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公开(公告)号：CN109082663A
公开(公告)日：2018-12-25
申请号：CN201810795063.9
申请日：2018-07-19
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
摘要： 本发明提供了一种蚀刻液组合物，包括如下重量分数的各组分：过氧化氢5～30％，过氧化氢稳定剂0.1～5％，蚀刻抑制剂0.001～0.2％，蚀刻添加剂5～20％，pH调节剂0.1～5％，蚀刻形状控制剂2～15％，以及余量的去离子水，所述蚀刻形状控制剂为醇胺类化合物。该蚀刻液组合物不含氟化物，对环境友好，可降低对操作人员的危害，降低废液处理成本，且蚀刻过程稳定、蚀刻速率适中，能有效避免掏空现象的产生，最终得到形状良好的金属布线结构。本发明还提供了该铜/钼蚀刻液组合物在显示面板制备中的应用。
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公开(公告)号：CN113097228B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202110311433.9
申请日：2021-03-24
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人： 吴豪旭
摘要： 本申请提供一种遮光基板及其制备方法和阵列基板。遮光基板包括：基板和设置于所述基板一侧的遮光层，所述遮光层的材料为黑色介孔金属氧化物。当所述遮光基板用来制备阵列基板时，黑色介孔金属氧化物可以加强对可见光的吸收和散射，从而降低阵列基板上金属层对入射光线的反射率。当所述阵列基板用来制备显示面板时，可以提高显示面板的对比度和视觉效果。
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公开(公告)号：CN113529085A
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN202110800709.X
申请日：2021-07-15
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人： 吴豪旭
摘要： 本申请提供一种蚀刻液和蚀刻方法。一种蚀刻液包括占蚀刻液总质量百分比为5％‑12％的过氧化氢、3％‑10％的螯合剂、0.1％‑1％的过氧化氢稳定剂、0.03％‑0.5％的抑制剂、2％‑10％有机碱、0.1‑5％的无机酸以及0.2％‑5％的酸碱调节剂，其余为水。本申请提供的蚀刻液不含氟化物且蚀刻效果好。
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公开(公告)号：CN111349938B
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN202010209957.2
申请日：2020-03-23
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人： 吴豪旭
IPC分类号： C23F1/18
摘要： 本发明公开了一种蚀刻螯合剂及其制备方法与蚀刻液组合物，所述蚀刻螯合剂包括纤维素交联聚合物，所述纤维素交联聚合物由羧甲基纤维素与胺类化合物交联聚合而得。所述蚀刻螯合剂中含有大量的羧基与胺基，与铜离子能够发生较强的螯合作用，并形成沉淀将铜离子从溶液中脱离出来，因此，使用加入此蚀刻螯合剂的蚀刻液进行含铜膜层蚀刻时，可有效抑制蚀刻液中铜离子浓度的升高。
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公开(公告)号：CN111333044A
公开(公告)日：2020-06-26
申请号：CN202010160684.7
申请日：2020-03-10
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
摘要： 本发明提供一种生产硝酸系统及生产硝酸方法，生产硝酸方法使用生产硝酸系统生产硝酸，生产硝酸系统包括原料供给装置以及硝酸生成装置。所述原料供给装置用于提供氮气、氧气以及去离子水；所述硝酸生成装置设有光催化层以及光源供给单元并与所述原料供给装置相连通，通过由所述光源供给单元提供的可见光和光催化层的相互作用，使所述氮气供给单元提供的氮气离解成氮原子，所述氮原子与所述去离子水进行反应生成一氧化氮；所述一氧化氮、所述氧气与所述去离子水反应生成硝酸。本发明通过光催化层受可见光照射将去离子水及高洁净的空气转化为硝酸，属于环保型生产硝酸方式，无废水及废液产出，且能够降低生产成本。
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公开(公告)号：CN110941115A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201911356683.3
申请日：2019-12-25
申请人： 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
发明人： 吴豪旭
IPC分类号： G02F1/1335 , G02F1/1362 , H01L27/12
摘要： 本发明提供一种低反射复合体层及其制作方法与阵列基板。低反射复合体层包括三维硅橡胶以及黑色金属氧化物颗粒形成的三维多孔结构。本发明通过利用低反射复合体层的复合体材料形貌加强对可见光源的吸收，从而降低其反射率，且该方法成本低。本发明提供的阵列基板中的缓冲层采用所述低反射复合体层，避免了产生强烈的反光现象，节省了成本，并提高了对比度和观赏视觉效果，提升了产品竞争力。
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