- 专利标题: 三维多孔结构复合体材料及制备方法、阵列基板
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申请号: CN201910456905.2申请日: 2019-05-29
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公开(公告)号: CN110190070B公开(公告)日: 2021-11-02
- 发明人: 吴豪旭
- 申请人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- 申请人地址: 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
- 专利权人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- 当前专利权人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
- 代理机构: 深圳翼盛智成知识产权事务所
- 代理商 黄威
- 主分类号: H01L27/12
- IPC分类号: H01L27/12
摘要:
本发明披露一种三维多孔结构复合体材料及制备方法、阵列基板。所述阵列基板中的金属电极层均采用低反射且具有三维多孔结构复合体材料,从而能够加强对可见光源的吸收,并且降低其反射率,以进一步提高对比度和观赏视觉效果。
公开/授权文献
- CN110190070A 三维多孔结构复合体材料及制备方法、阵列基板 公开/授权日:2019-08-30
IPC分类: