X射线产生装置
    1.
    发明公开
    X射线产生装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117597759A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202280045962.1

    申请日:2022-02-14

    Abstract: 一种X射线产生装置,具备:壳体;电子枪,其具有在上述壳体内出射电子的电子出射部;靶,其在上述壳体内通过入射上述电子而产生X射线;窗构件,其将上述壳体的开口密封,且使上述X射线透过;管电压施加部,其对上述电子出射部与上述靶之间施加管电压;及磁场形成部,其用于通过在上述电子出射部与上述靶之间形成磁场,而使上述电子偏向;上述靶的厚度具有分布,上述靶以相较于上述管电压相对高时,在上述管电压相对低时上述电子在该靶的厚度上入射至相对薄的部分的方式配置。

    电子倍增体和光电倍增管

    公开(公告)号:CN109643631B

    公开(公告)日:2021-03-16

    申请号:CN201780052892.1

    申请日:2017-08-03

    Abstract: 一种电子倍增体,其中,主体部具有沿着第二方向彼此层叠且用于形成第一通道和第二通道的第一板状构件和第二板状构件;所述第一板状构件包括第一表面、第一背面、第一孔部区域和第一实心区域;所述第二板状构件包括第二表面、第二背面、第二孔部区域和第二实心区域;所述第一孔部区域与所述第二实心区域相对,所述第二孔部区域与所述第一实心区域相对,所述第一通道由包括所述第一孔部的内表面、所述第二实心区域中的面向所述第一孔部内的面而形成;所述第二通道由包括第二孔部的内表面、所述第一实心区域中的面向所述第二孔部内的面而形成。

    电子管、电子管模块和光学装置
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116157893A

    公开(公告)日:2023-05-23

    申请号:CN202180060630.6

    申请日:2021-04-12

    Abstract: 电子管包括:真空容器,其具有透光性基板;光电面,其设置于透光性基板的内表面;阳极,其设置于真空容器内;和棱镜。棱镜具有:底面,其与透光性基板的外表面接合;光入射面;和光反射面,其通过使经由棱镜和透光性基板入射到光电面并在光电面与真空空间的界面反射的光进一步反射,从而使该光再次入射到光电面。光反射面具有向外侧凸出的曲面形状。光入射面位于比沿着光反射面的假想的球面靠内侧的位置。

    激光加工装置、及激光加工方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116075388A

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202180060970.9

    申请日:2021-03-29

    Abstract: 本发明是用于对对象物照射激光来形成改性区域的激光加工装置,其具备:用于支撑所述对象物的支撑部、用于朝向被所述支撑部支撑的所述对象物照射所述激光的照射部、用于使所述激光的聚光区域相对于所述对象物相对移动的移动部、以及用于控制所述移动部及所述照射部的控制部,所述对象物具有结晶结构,该结晶结构含有:(100)面、一个(110)面、另一个(110)面、与所述一个(110)面正交的第1结晶方位、和与所述另一个(110)面正交的第2结晶方位,并且所述对象物是以所述(100)面成为所述激光的入射面的方式支撑于所述支撑部,在所述对象物设定有从与所述入射面交叉的Z方向观察时呈圆环状的线。

    激光加工装置、及激光加工方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116113517A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202180060941.2

    申请日:2021-03-29

    Abstract: 本发明是用于对对象物照射激光来形成改性区域的激光加工装置,其具备:用于支撑所述对象物的支撑部、用于朝向被所述支撑部支撑的所述对象物照射所述激光的照射部、用于使所述激光的聚光区域相对于所述对象物相对移动的移动部、以及用于控制所述移动部及所述照射部的控制部。所述对象物具有结晶结构,该结晶结构含有:(100)面、一个(110)面、另一个(110)面、与所述一个(110)面正交的第1结晶方位、和与所述另一个(110)面正交的第2结晶方位,并且所述对象物是以所述(100)面成为所述激光的入射面的方式支撑于所述支撑部。

    激光加工装置、及激光加工方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116075389A

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202180061227.5

    申请日:2021-03-29

    Abstract: 本公开的激光加工装置,用于对具有结晶结构的对象物照射激光来形成改性区域,其具备:支撑部,其用于支撑所述对象物;照射部,其用于朝向所述支撑部所支撑的所述对象物照射所述激光;移动部,其用于使所述激光的聚光区域相对于所述对象物相对移动;以及控制部,其用于控制所述移动部及所述照射部,在所述对象物,从与所述激光的入射面交叉的Z方向观察,设定有包含圆弧状的第1区域与圆弧状的第2区域的圆环状的线,所述照射部,具有用于成形所述激光的成形部。

    激光加工装置和激光加工方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116060780A

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN202211360343.X

    申请日:2022-11-02

    Abstract: 在激光加工装置(1)中,对经由器件层(150)与第2晶片(200)接合的第1晶片(100)照射激光L,进行激光加工。器件层(150)包含包括多个芯片的有源区域(160)和以包围有源区域(160)的方式位于有源区域(160)的外侧的周缘部(170)。而且,在激光加工中,通过沿着在该周缘部(170)上环状延伸的第1线(A1)照射激光(L),形成沿着第1线(A1)的第1改性区域(121)。由此,能够利用第1改性区域(121)和从第1改性区域(121)延伸的第1裂纹(131),进行将晶片的外缘部分作为不要部分(除去区域E)除去的切边。

    能量线检测系统
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118843782A

    公开(公告)日:2024-10-25

    申请号:CN202280093273.8

    申请日:2022-12-02

    Abstract: 本发明的能量线检测系统具备:真空容器(2)及n个电路单元(8),该真空容器(2)具有第1冷头(23),该n个电路单元(8)具有:第1信号线(81);检测元件(82),其连接于第1信号线(81)的一端子(81a),在低温状态下检测能量线;信号处理电路(84),其包含连接于第1信号线(81)的另一端子(81b)的放大器(85)、电流源(86)及分路电阻(87)。第1信号线(81)的电阻值(R)大于基于第1信号线(81)的条数(n)、第1信号线(81)的一端子(81a)侧的温度(T1)、第1信号线(81)的另一端子(81b)侧的温度(T2)、及冷却器的冷却能力(Wc)而得的值,小于基于噪声容许电压(VN)、分路电阻的电阻值(Rsh)、在检测元件(82)为关断的情况及为导通的情况下的电阻值(Rs、Rn)、及在检测元件(82)为关断的情况下的电流(Ib)而得的值。

    X射线产生装置
    10.
    发明公开
    X射线产生装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN117716463A

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202280045947.7

    申请日:2022-02-15

    Abstract: 一种X射线产生装置,具备:壳体;电子枪,其具有在上述壳体内出射电子的电子出射部、及用于引出自上述电子出射部出射的上述电子的引出电极;靶,其在上述壳体内通过上述电子的入射而产生X射线;窗构件,其将上述壳体的开口密封,且使上述X射线透过;及管电压施加部,其对上述电子出射部与上述靶之间施加管电压;上述靶的厚度具有分布,上述靶配置成,相对于与上述电子枪的轴线正交的假想面倾斜,且相较于施加于上述引出电极的引出电压相对高时的上述电子的入射位置,在上述引出电压相对低时的上述电子的入射位置上,该靶的厚度变薄。

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